中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司杜杳隽获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正方法及掩膜版获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115729028B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111001006.7，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法及掩膜版是由杜杳隽设计研发完成，并于2021-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法及掩膜版在说明书摘要公布了：光学邻近修正方法及掩膜版，方法包括：提供原始版图图形；获取原始版图图形的边缘轮廓；将原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段；以第一窗口为单位分割原始版图图形；以第一窗口为窗口内区创建第二窗口；第二窗口包括第一窗口的窗口外区，第一窗口与第二窗口共中心；基于分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正原始版图图形，获取目标版图图形。因在修正原始版图图形时，基于分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息进行，即考虑到相邻分段之间的关联效应，使得所确定的每个分段的修正量具有较高的精度。
本发明授权光学邻近修正方法及掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 提供原始版图图形； 获取所述原始版图图形的边缘轮廓； 将所述原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段； 以第一窗口为单位分割所述原始版图图形； 以所述第一窗口为窗口内区创建第二窗口；所述第二窗口还包括所述第一窗口的窗口外区，所述第一窗口与所述第二窗口共中心； 基于对应的第二窗口内每个分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对各个第一窗口内的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目标版图图形。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区张江路18号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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