东京毅力科创株式会社松浦伸获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片支承台、等离子体处理系统和环状部件的安装方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113345830B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110224626.0，技术领域涉及：H01L21/687；该发明授权基片支承台、等离子体处理系统和环状部件的安装方法是由松浦伸;加藤健一设计研发完成，并于2021-03-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片支承台、等离子体处理系统和环状部件的安装方法在说明书摘要公布了：本发明提供基片支承台、等离子体处理系统和环状部件的安装方法。基片支承台包括：载置基片的基片载置面；环状部件载置面，其载置以包围保持于基片载置面的基片的方式配置的环状部件；三个以上的升降部件，其构成为能够从环状部件载置面伸出，并以可调节从环状部件载置面起的伸出量的方式升降；和使升降部件升降的升降机构，在环状部件的底面的与各个升降部件对应的位置，设有由向上方凹陷的凹面形成的凹部，俯视时，凹部比向环状部件载置面的上方输送环状部件的输送精度大，且比升降部件的上端部大，升降部件的上端部形成为随着去往上方而逐渐变细的半球状，形成凹部的凹面与升降部件的上端部的形成半球状的凸面相比曲率小。
本发明授权基片支承台、等离子体处理系统和环状部件的安装方法在权利要求书中公布了：1.一种基片支承台，其特征在于，包括： 载置基片的基片载置面； 环状部件载置面，其载置以包围保持于所述基片载置面的基片的方式配置的环状部件； 三个以上的升降部件，其构成为能够从所述环状部件载置面伸出，并以可调节从所述环状部件载置面起的伸出量的方式升降；和 使所述升降部件升降的升降机构， 在所述环状部件的底面的与各个所述升降部件对应的位置，设有由向上方凹陷的凹面形成的凹部， 俯视时，所述凹部比向所述环状部件载置面的上方输送所述环状部件的输送精度大，且比所述升降部件的上端部大， 所述升降部件的上端部形成为随着去往上方而逐渐变细的半球状， 形成所述凹部的所述凹面与所述升降部件的上端部的形成所述半球状的凸面相比曲率小。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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