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龙图腾网获悉西拉格国际有限公司申请的专利控制超光谱成像系统中的激光脉冲的积分能量获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114144106B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080045226.7，技术领域涉及：A61B1/06；该发明授权控制超光谱成像系统中的激光脉冲的积分能量是由J·D·塔尔伯特;D·M·威克恩设计研发完成，并于2020-06-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本控制超光谱成像系统中的激光脉冲的积分能量在说明书摘要公布了：本发明公开了在缺光环境中的脉冲超光谱成像。本发明公开了一种系统，该系统包括用于发射电磁辐射脉冲的发射器和包括用于感测反射的电磁辐射的像素阵列的图像传感器。该系统包括用于感测由发射器发射的能量的电磁传感器。该系统包括控制器，该控制器被配置为同步发射器和图像传感器的定时。该系统使得由发射器发射的电磁辐射脉冲的至少一部分包括具有约513nm至约545nm、约565nm至约585nm、或约900nm至约1000nm的波长的电磁辐射。

本发明授权控制超光谱成像系统中的激光脉冲的积分能量在权利要求书中公布了：1.一种系统，包括： 多个发射器，所述多个发射器用于发射多个电磁辐射脉冲，其中，所述多个发射器被配置成发射可见光并且发射用于激发光谱响应的超光谱电磁辐射脉冲； 电磁传感器，所述电磁传感器用于感测由所述发射器发射的能量； 图像传感器，所述图像传感器包括用于感测反射的电磁辐射的像素阵列； 控制器，所述控制器与所述发射器、所述电磁传感器和所述图像传感器电子通信，其中所述控制器被配置为同步所述发射器和所述图像传感器的定时； 其中由所述发射器发射的所述超光谱电磁辐射脉冲的至少一部分包括以下中的一者或多者： 具有513nm至545nm的波长的电磁辐射； 具有565nm至585nm的波长的电磁辐射；或者 具有900nm至1000nm的波长的电磁辐射， 其中，所述控制器进一步被配置成： 从所述电磁传感器接收由所述发射器发射的所述能量的值； 将由所述发射器发射的所述能量的值与所述发射器的期望的光输出进行比较； 确定由所述发射器发射的所述能量的值是否在相对于所述发射器的所述期望的光输出的公差阈值内；以及 响应于由所述发射器发射的所述能量的值不在所述公差阈值内的情况，调节所述电磁辐射脉冲中的至少一个脉冲的波长和或持续时间，以使由所述发射器发射的所述能量的值在所述公差阈值内， 其中，所述图像传感器被配置为感测反射的电磁辐射以产生多个曝光帧，所述反射的电磁辐射对应于由所述多个发射器发射的多个电磁辐射脉冲，并且其中，所述多个曝光帧中的一部分包括对应于由所述发射器发射的超光谱电磁辐射脉冲的一个或多个超光谱曝光帧，并且 其中，所述系统被配置成产生视频流，所述视频流包括所述一个或多个超光谱曝光帧中的至少一个超光谱曝光帧，以及所述多个曝光帧中的除超光谱曝光帧之外的其他曝光帧中的一部分。

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