中国科学技术大学吴思获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学技术大学申请的专利一种偶氮苯聚合物材料及其在纳米压印光刻中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119930995B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510127163.4，技术领域涉及：C08G61/12；该发明授权一种偶氮苯聚合物材料及其在纳米压印光刻中的应用是由吴思;徐木欢设计研发完成，并于2025-01-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种偶氮苯聚合物材料及其在纳米压印光刻中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种偶氮苯聚合物材料及其在纳米压印光刻中的应用。本发明采用一步简单的开环易位聚合法制备了偶氮苯聚合物，赋予其优异的热稳定性和光稳定性，能够在高温和太阳光照射条件下保持其卓越的性能。与传统纳米压印光刻胶相比，本发明纳米压印光刻胶在纳米压印过程中具有更高的稳定性和精度，能有效减少压印的图案失真、模糊等问题，保证了纳米结构转印的准确性。在提高成品质量和生产效率的同时，降低了制造过程中的不确定性和成本。
本发明授权一种偶氮苯聚合物材料及其在纳米压印光刻中的应用在权利要求书中公布了：1.一种偶氮苯聚合物材料，其特征在于其结构通式如下式Ⅰ所示： ； 其中n代表聚合度，取值范围为5~500。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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