莱特莱德(上海)技术有限公司檀井杰获国家专利权
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龙图腾网获悉莱特莱德(上海)技术有限公司申请的专利一种半导体行业用超纯水高回收率制备系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223372929U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422553901.5，技术领域涉及：C02F9/00；该实用新型一种半导体行业用超纯水高回收率制备系统是由檀井杰;孙亚飞;刘婷婷;王晓强;苏战华设计研发完成，并于2024-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体行业用超纯水高回收率制备系统在说明书摘要公布了：本实用新型涉及超纯水制备技术领域，提出了一种半导体行业用超纯水高回收率制备系统，包括原水箱，原水箱通向一级TOC脱除系统，一级TOC脱除系统通向一级脱气系统，一级脱气系统通向一级EDI装置用于初步脱盐，加碱系统‑通向一级EDI装置，一级EDI装置通向二级EDI装置，二级EDI装置通向超纯水水箱，超纯水水箱通向二级TOC脱除系统，二级TOC脱除系统通向三级抛光系统，三级抛光系统通向二级脱气系统，二级脱气系统通向终端UF。通过上述技术方案，解决了现有技术中的半导体行业用超纯水制备效果差的问题。
本实用新型一种半导体行业用超纯水高回收率制备系统在权利要求书中公布了：1.一种半导体行业用超纯水高回收率制备系统，其特征在于，包括： 原水箱（1）， 一级TOC脱除系统（3），所述原水箱（1）通向所述一级TOC脱除系统（3）， 一级脱气系统（4），所述一级TOC脱除系统（3）通向所述一级脱气系统（4）， 一级EDI装置（5），所述一级脱气系统（4）通向所述一级EDI装置（5）用于初步脱盐， 加碱系统（501），所述加碱系统（501）通向所述一级EDI装置（5）， 二级EDI装置（7），所述一级EDI装置（5）通向所述二级EDI装置（7）， 超纯水水箱（8），所述二级EDI装置（7）通向所述超纯水水箱（8）， 二级TOC脱除系统（11），所述超纯水水箱（8）通向所述二级TOC脱除系统（11）， 三级抛光系统（12），所述二级TOC脱除系统（11）通向所述三级抛光系统（12）， 二级脱气系统（15），所述三级抛光系统（12）通向所述二级脱气系统（15）， 终端UF（17），所述二级脱气系统（15）通向所述终端UF（17）。
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