中国矿业大学(北京)蒋金豹获国家专利权
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龙图腾网获悉中国矿业大学(北京)申请的专利基于三次多线性解混的近地面高光谱植被阴影补偿方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117115024B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311071780.4，技术领域涉及：G06T5/94；该发明授权基于三次多线性解混的近地面高光谱植被阴影补偿方法是由蒋金豹;李康宁;张文璇设计研发完成，并于2023-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于三次多线性解混的近地面高光谱植被阴影补偿方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于三次多线性解混的近地面高光谱植被阴影补偿方法，包括如下步骤：S1.阴影初步检测：对高光谱影像进行阴影初步检测获得光照区域；S2.利用基于三次多线性解混的阴影补偿方法进行阴影补偿。本发明方法在第一次SMLM模型解混后对阴影进行二次检测，并考虑阴影区端元，进行第二次SMLM模型解混确定补偿程度；利用第二次SMLM模型解混得到的丰度和VPEI指数判断阴影类型，并对信息量极少的区域进行结合VPEI的第三次SMLM模型解混，对不同阴影进行不同程度的补偿，有效地解决了SMLM补偿模型在高分辨率影像中过度补偿和错误补偿的问题。
本发明授权基于三次多线性解混的近地面高光谱植被阴影补偿方法在权利要求书中公布了：1.一种基于三次多线性解混的近地面高光谱植被阴影补偿方法，其特征在于，包括如下步骤： S1.阴影初步检测：对高光谱影像进行阴影初步检测获得光照区域； S2.利用基于三次多线性解混的阴影补偿方法进行阴影补偿； 在步骤S2中，包括： a.光照区端元选取：在初步检测的光照区域中，采用顶点成分分析算法提取植被和土壤的端元，视为所述光照区端元； b.阴影二次检测及阴影区端元选取：将所述光照区端元作为基于阴影的多线性混合（SMLM）模型的输入端元进行阴影区域提取，并利用欧氏距离法选择阴影区端元； c.阴影补偿：在所述基于阴影的多线性混合（SMLM）模型中输入所述阴影区端元，并将阴影分为普通阴影区和信息量过少的阴影区，所述普通阴影区根据解混后的参数进行光谱重建补偿，所述信息量过少的阴影区结合VPEI进行所述基于阴影的多线性混合（SMLM）模型解混后再进行光谱重建补偿，其中，VPEI为考虑阴影的植被像素提取指数。
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