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龙图腾网获悉上海镭望光学科技有限公司申请的专利一种光刻机曝光剂量控制系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116107174B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310103021.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光刻机曝光剂量控制系统是由陈浩然;李立孟;张友宝;马兴华;童长青;雷波涛设计研发完成，并于2023-02-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光刻机曝光剂量控制系统在说明书摘要公布了：本申请提供一种光刻机曝光剂量控制系统，包括：可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元、激光器、控制装置和上位机；控制装置包括多核异构控制器和FPGA控制器，多核异构控制器包括ARM核和DSP核；ARM核用于对可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元和激光器进行应用逻辑控制；DSP核用于对可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元和激光器进行驱动控制；FPGA控制器用于对可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元和激光器进行并行控制及多路AD高速采集；上位机用于向ARM核下发与曝光剂量控制相关的功能命令；本申请采用多核异构控制器DSP核与ARM核+FPGA的架构来简化系统链路、软硬件复杂性的目的，提升了控制系统的实时性，使该控制系统能够实现复杂的功能。

本发明授权一种光刻机曝光剂量控制系统在权利要求书中公布了：1.一种光刻机曝光剂量控制系统，其特征在于，包括：可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元、激光器、控制装置和上位机； 所述控制装置包括多核异构控制器和FPGA控制器，所述多核异构控制器包括ARM核和DSP核，所述ARM核、DSP核和FPGA控制器集成于一DCB板卡上； 所述ARM核用于对所述可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元和激光器进行应用逻辑控制； 所述DSP核用于对所述可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元和激光器进行驱动控制； 所述FPGA控制器用于对所述可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元和激光器进行并行控制及多路AD高速采集； 所述上位机用于向所述ARM核下发与曝光剂量控制相关的功能命令； 所述ARM核与所述上位机进行网络通信，接收所述上位机下发的功能命令并对其进行解析，所述ARM核与所述DSP核进行核间实时通讯，以将解析后的命令和参数发送至DSP核，所述DSP核通过高速总线与所述FPGA控制器进行实时数据交互，以将接收的命令和参数发送至FPGA控制器，所述FPGA控制器根据接收的命令和参数控制相应的可变衰减器、光束稳定单元、能量采集单元、激光器执行相应的功能操作。

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