东京毅力科创株式会社池田太郎获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114864366B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210080663.3,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权等离子体处理装置是由池田太郎;北原聪文设计研发完成,并于2022-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种等离子体处理装置,等离子体处理装置具备:同轴管,其设置为沿上下方向延伸,形成高频波导的一部分;基板支承部,其用于支承基板;电极,其具有与向所述基板支承部的上方的空间开口的气体喷出口连接的气体流路,所述电极设于所述基板支承部的上方且在中央连接有所述同轴管的内侧导体;扩径部,其与所述电极一起形成所述高频波导的一部分,并与所述同轴管的外侧导体连接;电介质管,其由电介质构成,该电介质管以贯穿所述电极与所述扩径部之间的空间的方式与所述电极连接,用于向所述电极供给气体,其中,以散布的方式设置有多个所述电介质管。
本发明授权等离子体处理装置在权利要求书中公布了:1.一种等离子体处理装置,其具备: 同轴管,其设置为沿上下方向延伸,形成高频波导的一部分; 基板支承部,其用于支承基板; 电极,其具有与向所述基板支承部的上方的空间开口的气体喷出口连接的气体流路,所述电极设于所述基板支承部的上方且在中央连接有所述同轴管的内侧导体; 扩径部,其与所述电极一起形成所述高频波导的一部分,并与所述同轴管的外侧导体连接,所述扩径部设于所述电极的上方;以及 电介质管,其由电介质构成,该电介质管以贯穿由所述电极的上表面与所述扩径部的下表面划分出的空间的方式与所述电极连接,用于向所述电极供给气体, 其中,以散布的方式设置有多个所述电介质管。
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