西安工业大学杨巍获国家专利权
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龙图腾网获悉西安工业大学申请的专利一种AlFexCrCoNi高熵合金表面陶瓷化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112553667B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011321103.X，技术领域涉及：C25D11/34；该发明授权一种AlFexCrCoNi高熵合金表面陶瓷化方法是由杨巍;程赵辉;石小倩;徐大鹏;蓝楠;武上焜;陈建设计研发完成，并于2020-11-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种AlFexCrCoNi高熵合金表面陶瓷化方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种AlFexCrCoNi高熵合金表面陶瓷化方法，对AlFexCrCoNi高熵合金进行预处理；采用直流脉冲微弧氧化电源、以及配制好的硅酸盐微弧氧化电解液，对预处理后的AlFexCrCoNi高熵合金进行微弧氧化处理，以在AlFexCrCoNi高熵合金表面形成陶瓷层；本发明以AlFexCrCoNi高熵合金表面陶瓷化为目标，通过调控高熵合金元素的匹配度，并结合高频率、低占空比、高电压的电参数，选配合适的微弧氧化电解液，可以在AlFexCrCoNi高熵合金表面快速获得黑色氧化膜陶瓷层，实现高熵合金的陶瓷化，提升其抗腐蚀耐磨损性能。
本发明授权一种AlFexCrCoNi高熵合金表面陶瓷化方法在权利要求书中公布了：1.一种AlFexCrCoNi高熵合金表面陶瓷化方法，其特征在于，包括以下步骤： 对AlFexCrCoNi高熵合金进行预处理；其中，0.3≤X≤0.7； 采用直流脉冲微弧氧化电源、以及配制好的硅酸盐微弧氧化电解液，以预处理后的所述AlFexCrCoNi高熵合金为阳极，对预处理后的所述AlFexCrCoNi高熵合金进行微弧氧化处理，在其表面形成陶瓷层； 其中，所述微弧氧化处理的电参量为：单脉冲输出电压为550～650V，频率为800Hz~1500Hz，占空比为3~6%，氧化时间为5～45min； 所述陶瓷层的厚度为5～30µm； 所述电解液中固态分析纯硅酸钠的浓度为50gL。
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