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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利一种掩模优化方法、掩模优化系统及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112506003B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011314970.0，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权一种掩模优化方法、掩模优化系统及电子设备是由黄晔;丁明设计研发完成，并于2020-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模优化方法、掩模优化系统及电子设备在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及掩模优化方法、掩模优化系统及电子设备。包括步骤：S1、提供包括至少一个掩模图形的掩模版图，并将掩模版图划分成多个区域块，至少部分区域块中包括至少一个掩模图形；S2、对区域块中每个掩模图形所有的线段分别与其周围的线段执行计算，获得并记录与每条线段对应的特征值；S3、统计所有区域块中的特征值，基于特征值对所述区域块进行分类，基于分类结果选择需要执行优化的区域块定义为执行块，所有执行块之间的掩模图形的线段的特征值存在区别；及S4、对执行块进行优化，并记录优化结果，且基于优化结果对掩模版图进行全局优化，基于上述步骤对掩模版图进行优化能很好的减小运算量，提高优化效率。

本发明授权一种掩模优化方法、掩模优化系统及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种掩模优化方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、提供包括至少一个掩模图形的掩模版图，并将所述掩模版图划分成多个区域块，至少部分区域块中包括至少一个掩模图形，所述掩模图形为多边形，包括多条围合的线段； S2、对所述区域块中每个掩模图形所有的线段分别与其周围的线段执行计算，获得并记录与每个掩模图形每条线段对应的特征值，所述特征值至少为关于周围所有的线段的位置、长度以及方向的函数，定义需要计算特征值的线段为Sj，特征值对应为a，Si为线段Sj周围的线段，则a通过如下的哈希函数计算： Six,y为线段Sj周围的线段Si以线段Sj的中点为原点的相对坐标，SiL为线段Si的长度，SiD为线段Si相对线段Sj的方向的相对值； S3、统计所有区域块中所有线段的特征值，基于所述特征值对所述区域块进行分类，基于分类结果选择需要执行优化的区域块定义为执行块，所有执行块之间的掩模图形的线段的特征值存在区别；及 S4、对所述执行块进行优化，并记录每个特征值对应的掩模图形的线段对应的优化结果，且基于所述优化结果对所述掩模版图进行全局优化。

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