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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于排队式基板处理系统的掩模处理模块和用于在真空处理系统中进行掩模传送的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112740391B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880097729.1，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权用于排队式基板处理系统的掩模处理模块和用于在真空处理系统中进行掩模传送的方法是由塞巴斯蒂安·巩特尔·臧设计研发完成，并于2018-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于排队式基板处理系统的掩模处理模块和用于在真空处理系统中进行掩模传送的方法在说明书摘要公布了：描述了提供一种用于排队式基板处理系统的掩模处理模块、一种用于基板的排队式处理的真空处理系统、及一种用于掩模传送的方法。此掩模处理模块包括真空旋转腔室，提供于第一真空腔室及第二真空腔室之间的此排队式基板处理系统内；旋转机构，位于此真空旋转腔室内；第一掩模台，具有第一掩模保持器组件，且此第一掩模台安装于此旋转机构上，以旋转此第一掩模台，及第二掩模台，具有第二掩模保持器组件，且此第二掩模台安装于此旋转机构上，以旋转此第二掩模台；掩模处理组件，配置成用于此第一掩模台及掩模处理腔室之间的第一掩模传送；及第一基板运输轨道，与此第一掩模台相关联，此第一基板运输轨道配置成用以支撑第一基板载体，此第一掩模保持器组件配置成用于此第一掩模台及此第一基板载体之间的第二掩模传送；及第二基板运输轨道，与此第二掩模台相关联，此第二基板运输轨道配置成用以支撑第二基板载体。

本发明授权用于排队式基板处理系统的掩模处理模块和用于在真空处理系统中进行掩模传送的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于排队式基板处理系统的掩模处理模块，包括： 真空旋转腔室，提供于第一真空腔室及第二真空腔室之间的所述排队式基板处理系统内； 旋转机构，位于所述真空旋转腔室内； 第一掩模台，具有第一掩模保持器组件，且所述第一掩模台固定地安装于所述旋转机构上，以旋转所述第一掩模台； 第二掩模台，具有第二掩模保持器组件，且所述第二掩模台固定地安装于所述旋转机构上，以旋转所述第二掩模台； 掩模处理组件，配置成用于所述第一掩模台及掩模处理腔室之间的第一掩模传送，所述掩模处理组件配置成将掩模装载至所述第一掩模台； 第一基板运输轨道，与所述第一掩模台相关联，所述第一基板运输轨道配置成用以支撑第一基板载体，所述第一掩模保持器组件配置成用于所述第一掩模台及所述第一基板载体之间的第二掩模传送，所述第一掩模保持器组件配置成将所述掩模从所述第一掩模台传送至所述第一基板载体；和 第二基板运输轨道，与所述第二掩模台相关联，所述第二基板运输轨道配置成用以支撑第二基板载体， 其中所述旋转机构包括旋转支撑件及致动器，所述致动器配置成用以在所述真空旋转腔室内旋转所述旋转支撑件，并且 其中所述第一掩模台及所述第二掩模台相对于所述旋转支撑件为静止的。

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