泉州装备制造研究所黄惠玲获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
龙图腾网获悉泉州装备制造研究所申请的专利一种光学元件多维参量单次曝光测量装置和测量方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120253184B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510732599.6,技术领域涉及:G01M11/02;该发明授权一种光学元件多维参量单次曝光测量装置和测量方法是由黄惠玲;韩军;吴飞斌;龙晋桓;陈晟;林汉飞设计研发完成,并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学元件多维参量单次曝光测量装置和测量方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种光学元件多维参量单次曝光测量装置和测量方法,涉及多参量测量技术领域,该装置包括:照明系统、起偏器、待测样品、透镜、调制板、数据采集系统和数据处理系统;所述照明系统由一台相干光源和一个准直系统组成,为系统提供一束直径约5mm的相干照明光;所述起偏器设置在照明系统之后,用于将光束转换为特定偏振态的照明光;本发明通过光学路径设计和数据处理算法,实现了单次曝光即可完成对光学元件振幅、相位和双折射等多维参量的准确测量,极大地缩短了测量时间,将原本可能需要数小时甚至更长时间的测量过程压缩至单次曝光瞬间完成,大幅提高了测量效率。
本发明授权一种光学元件多维参量单次曝光测量装置和测量方法在权利要求书中公布了:1.一种光学元件多维参量单次曝光测量方法,其特征在于,所述该方法包括以下组成部分: 光学路径设置与初始光场准备:照明系统1发出的相干光经过起偏器2后,形成特定偏振态的照明光并照射在待测样品3上,照射到待测样品3的照明光继续传播,被放置于待测样品3后的透镜4先进行聚焦再发散,在透镜4焦点的后方放置已知分布的相位型调制板5,用于对照明光进行调制; 单次曝光数据采集:数据采集系统6将调制后的衍射光斑记录下来,其中偏振相机的通光方向角度分别为0°、45°、90°和135°,采集到四幅偏振图像; 迭代重建光场分布:将单次曝光采集到的四幅偏振图像传输至数据处理系统中,利用迭代算法重建待测样品3的振幅、相位和双折射分布图,将相机面上的光场表示为复数形式,用记录到的强度信息替换该复数形式中的振幅部分,并将更新后的光场沿着与光传播相反的方向传输到编码板面,去除调制板5对照明光的调制作用,得到调制板5面上的入射光分布,将该入射光分布逆向传回到焦平面,以焦平面作为限制条件,得到更新后的焦平面的波前分布; 双折射信息计算与参量确定:经过多次迭代后,得到焦点处准确的光场分布,将该光场分布逆向回传至透镜4处,去除透镜4对光场的相位影响,继续逆向回传至样品处,得到样品的透射函数在四个偏振方向上的振幅和相位分布,利用四个偏振方向的复振幅信息,求解样品的双折射信息,即求解起偏器2与应力点主轴X之间的夹角φ,以及两束光之间的相位差δ,其计算公式为:其中,Amγ是不同偏振方向下的振幅OE是与样品双折射相关的振幅参数,代表未受双折射影响的初始振幅分量,φ是起偏器2通光方向与样品应力点主轴X之间的夹角,用于表征双折射的方向特性,δ是样品中两束正交偏振光之间的相位差,反映双折射的强度,求解方程组可得φ=带入sin2φ+cos2φ=1,得到与φ无关的δ的表达式进一步得到主应力差σ1-其中,σ1和σ2是应力点上两个垂直方向上的主应力,λ是照明光的波长,是约化普朗克常数,C是样品的应力应变系数,用于表征应力与双折射的转换关系,最终得到主应力差。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人泉州装备制造研究所,其通讯地址为:362216 福建省泉州市台商投资区洛阳镇上浦村吉贝511号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。