浙江创芯集成电路有限公司鲁苗苗获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利版图的修正方法、存储介质及终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119087738B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411137065.0，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权版图的修正方法、存储介质及终端是由鲁苗苗;高大为;吴永玉;任堃;徐世斌;颜哲钜;李翰轩;姚淼红;张馨元设计研发完成，并于2024-08-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本版图的修正方法、存储介质及终端在说明书摘要公布了：一种版图的修正方法、存储介质及终端，其中版图的修正方法包括：提供初始版图，初始版图包括若干主图形；采用基于规则的辅助图形生成方法在初始版图中生成若干第一辅助图形；对主图形进行光学邻近修正迭代处理，且在每次光学邻近修正的过程中基于辅助图形进行光刻工艺窗口的优化运算。较基于仅基于规则插入亚分辨率辅助图形的版图修正方式相比，由于在每次光学邻近修正的过程中，增加基于辅助图形进行光刻工艺窗口的优化运算，有效提高版图修正的光刻工艺窗口；较基于反演光刻技术的版图修正方式相比，采用基于规则生成若干第一辅助图形，且在基于辅助图形的光刻工艺窗口优化运算过程中，避免采用像素化的计算方式，有效提升版图修正的计算效率。
本发明授权版图的修正方法、存储介质及终端在权利要求书中公布了：1.一种版图的修正方法，其特征在于，包括： 提供初始版图，所述初始版图包括若干主图形； 采用基于规则的辅助图形生成方法在所述初始版图中生成若干第一辅助图形，使得的所述初始版图形成中间版图； 对所述主图形进行光学邻近修正迭代处理，且在每次所述光学邻近修正的过程中基于辅助图形进行光刻工艺窗口的优化运算，使得所述中间版图形成修正版图。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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