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龙图腾网获悉清华大学深圳国际研究生院申请的专利一种基于结构光场的镜面缺陷检测系统成像仿真方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119198725B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410656874.6，技术领域涉及：G01N21/88；该发明授权一种基于结构光场的镜面缺陷检测系统成像仿真方法是由金欣;王岱洪设计研发完成，并于2024-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于结构光场的镜面缺陷检测系统成像仿真方法在说明书摘要公布了：一种基于结构光场的镜面缺陷检测系统成像仿真方法，包括：S1：标定系统参数，作为仿真模型输入。S2：推导光场相机光线传播模型，从传感器进行光线追迹，使光场子图阵列并行计算，求解光场相机入射光线向量。S3：设计函数拟合形变缺陷的三维面形，求解缺陷处入射光线向量，追迹光线得到光源点坐标与光照强度。S4：基于Lambert漫反射模型，引入表征划痕粗糙度污渍不透明度的系数，建立漫反射无形变缺陷的灰度模型。S5：生成仿真图像及其标签。将仿真图像与实拍图像对比，评估仿真模型的可靠性。评估仿真模型的运行效率。本发明有效提升了镜面缺陷光场检测成像仿真的精度和速度，可用于检测系统搭建前进行参数优化、生成仿真图像数据集等应用。

本发明授权一种基于结构光场的镜面缺陷检测系统成像仿真方法在权利要求书中公布了：1.一种基于结构光场的镜面缺陷检测系统成像仿真方法，其特征在于，包括如下步骤： S1：标定系统参数，作为仿真的输入； S2：使用标定的系统参数，从传感器出发进行光线追迹，通过并行计算方法求解光场相机入射光线向量，从而构建光场相机光线传播模型； 步骤S2具体包括： S21：计算像面子图阵列与微透镜阵列之间的一一对应关系； S22：求解子图的直径和间距，以生成阵列子图中心及其对应微透镜中心的坐标数组； S23：以像面中心为基点，进行层序遍历生成光场子图阵列，直至子图与传感器无交集； S24：忽略失焦现象、采用针孔模型推导光场相机的光线传播模型； S25：利用推导的光线传播模型和生成的坐标数组，通过并行计算求解光场相机的入射光线向量； S3：基于所述光场相机光线传播模型，设计函数拟合形变缺陷的三维面形，利用所述模型求解缺陷处的入射光线向量，并追迹光线以确定光源点的坐标及光照强度，从而对形变缺陷进行成像模拟； 步骤S3具体包括： S31：采用函数解析式拟合形变缺陷的三维面形，包括使用分段分布函数拟合实拍图像中的形变缺陷； S32：基于拟合的三维面形，求解缺陷处的入射光线向量； S33：追迹光线至光源点，计算光源点坐标与光照强度； S34：直接将光线追迹到无缺陷平面来计算相交点；采用矩阵化方法并行计算光线与平面的交点； S4：利用所述光场相机光线传播模型提供的光线入射信息，通过Lambert漫反射模型来计算漫反射缺陷的灰度值，并引入表征划痕粗糙度或污渍不透明度的系数，建立漫反射无形变缺陷的灰度模型，从而模拟漫反射缺陷在不同光照条件下的视觉表现； S5：基于步骤S3对形变缺陷进行的成像模拟和步骤S4建立的漫反射无形变缺陷的灰度模型，生成仿真图像和标签。

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