信越化学工业株式会社小林直贵获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117363058B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310824185.7，技术领域涉及：C09D1/00；该发明授权金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法是由小林直贵;长町伸宏;郡大佑设计研发完成，并于2023-07-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法。本发明提供具有优良涂布性且兼顾高程度填埋平坦化特性的金属氧化膜形成用组成物、使用其的图案形成方法及金属氧化膜形成方法。一种金属氧化膜形成用组成物，包含A有机‑无机复合材料及B溶剂，其特征为：前述A有机‑无机复合材料是金属源I与有机源II的反应产物，前述金属源I含有选自下列通式I‑1表示的金属化合物、通式I‑1表示的金属化合物的水解物、及通式I‑1表示的金属化合物的水解缩合物中的1种以上的化合物，前述有机源II含有具有下列通式II‑1表示的构成单元及卡多cardo结构的化合物。
本发明授权金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法在权利要求书中公布了：1.一种金属氧化膜形成用组成物，包含A有机-无机复合材料及B溶剂， 其特征为：该A有机-无机复合材料为金属源I与有机源II的反应产物， 该金属源I含有选自下列通式I-1表示的金属化合物、通式I-1表示的金属化合物的水解物、及通式I-1表示的金属化合物的水解缩合物中的1种以上的化合物， 该有机源II含有具有下列通式II-1表示的构成单元及卡多结构的化合物， 式中，M为金属，RA1为具有0或1个羟基的碳数1～30的1价有机基团，为相同的基团或不同的基团，又，互相相邻的RA1彼此任选互相键结并和它们所键结的O及M一起形成环及螺环，r为3～6的整数，Ra为任选经取代的碳数1～10的饱和或碳数2～10的不饱和的1价有机基团，p为0～5的整数，q1为1～6的整数，p+q1为1以上6以下的整数，q2为0或1，＊为键结位置； 该通式I-1的M含有选自由Zr、Ta、Hf、Ti、Sn、Nb、Mo、Ge及W构成的群组中的金属。
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