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龙图腾网获悉中国科学院高能物理研究所申请的专利基于KB镜纳米实验系统的高精度定位测量方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116086310B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310055359.8，技术领域涉及：G01B9/02015；该发明授权基于KB镜纳米实验系统的高精度定位测量方法及装置是由于海涵;汤善治;何天;廖瑞颖;欧自娜;周亮;李明设计研发完成，并于2023-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于KB镜纳米实验系统的高精度定位测量方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于KB镜纳米实验系统的高精度定位测量方法及装置。本装置包括两独立的腔体和至少一套稳定性测量系统，稳定性测量系统包括一激光源、一稳定性测量组件、一目标光栅、一反射单元和信号处理单元；其中一腔体内设置纳米KB镜，纳米KB镜上设置目标光栅、反射单元，另一腔体内设置样品台，样品台上设置稳定性测量组件；或者其中一腔体内设置纳米KB镜，纳米KB镜上设置稳定性测量组件，另一腔体内设置样品台，样品台上设置目标光栅、反射单元；稳定性测量组件包括分光单元、回射单元、测量单元。本发明通过紧凑且具有高稳定性的光学布局，实现对纳米KB镜与样品台之间位移稳定性的高精度直接测量。

本发明授权基于KB镜纳米实验系统的高精度定位测量方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于KB镜纳米实验系统的高精度定位测量装置，其特征在于，包括两独立的腔体和至少一套稳定性测量系统，所述稳定性测量系统包括一激光源、一稳定性测量组件、一目标光栅、一反射单元和信号处理单元；其中一腔体内设置纳米KB镜，所述纳米KB镜上设置所述目标光栅、反射单元，另一腔体内设置样品台，所述样品台上设置所述稳定性测量组件；或者其中一腔体内设置纳米KB镜，所述纳米KB镜上设置所述稳定性测量组件，另一腔体内设置样品台，所述样品台上设置所述目标光栅、反射单元；所述稳定性测量组件包括分光单元、回射单元、测量单元； 所述激光源用于为所述稳定性测量组件提供测量激光； 所述分光单元用于将所述测量激光分为两束光，分别用于测量样品台与纳米KB镜在两个方向上的位移； 第一束测量光束分别入射到第一方向上的第一测量单元作为参考光，以及经所述第一测量单元入射到所述目标光栅，所述目标光栅用于使入射光发生衍射产生频移并入射到所述回射单元，所述回射单元将入射光束经所述目标光栅入射到该第一测量单元作为测量光，入射到第一测量单元的参考光、测量光发生干涉后输入第一信号处理单元，第一信号处理单元根据收到的干涉信号计算得到第一方向上的位移； 第二束测量光束分别入射到第二方向上的第二测量单元作为参考光，以及入射到所述反射单元，所述反射单元将入射光反射到所述第二测量单元作为测量光，入射到第二测量单元的参考光、测量光发生干涉后输入第二信号处理单元，第二信号处理单元根据收到的干涉信号计算得到第二方向上的位移。

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