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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种基于六芳基联咪唑的紫外正性光刻胶及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115963696B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211655065.0，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权一种基于六芳基联咪唑的紫外正性光刻胶及其使用方法是由朱明强;骆鹏飞;李冲设计研发完成，并于2022-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于六芳基联咪唑的紫外正性光刻胶及其使用方法在说明书摘要公布了：本发明属于微电子加工材料技术领域，更具体地，涉及一种基于六芳基联咪唑的紫外正性光刻胶及其使用方法。该光刻胶包括低聚物二元醇、官能化的六芳基联咪唑分子开关交联剂、自由基淬灭剂、催化剂和二异氰酸酯。利用该光刻胶进行光刻时，在紫外光照下，光刻胶中形成的聚合物网络结构中的六芳基联咪唑单元中两个咪唑环之间的动态C‑N共价键响应光照裂解形成低聚物；其中自由基淬灭剂用于确保该光刻胶在曝光解聚形成低聚物后不会自发复原，从而保证光刻胶曝光部分形成的低聚物能被显影液溶解，而未曝光部分不溶于显影液，显影后得到高分辨率的目标正性图案。

本发明授权一种基于六芳基联咪唑的紫外正性光刻胶及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶，其特征在于，包括低聚物二元醇、官能化的六芳基联咪唑分子开关交联剂、自由基淬灭剂、催化剂和二异氰酸酯； 所述官能化的六芳基联咪唑分子开关交联剂为以六芳基联咪唑为分子主体而修饰设计得到的带羟基官能团的分子开关，其中六芳基联咪唑具有如下式（一）所示的结构： 式（一）； 所述自由基淬灭剂为式（九）所示的酚类阻聚剂： 式（九） 式（九）中R1为H或者OH，R2为-CCH33、-CH3、-CH2CH3、-OCH3、-OH、-Br、-Cl或-NO2； 使用时，所述低聚物二元醇、官能化的六芳基联咪唑分子开关交联剂能够在所述催化剂的催化条件下与二异氰酸酯发生逐步加成聚合，形成聚合物网络结构；利用该光刻胶进行光刻时，在紫外光照下，所述聚合物网络结构中的六芳基联咪唑单元中两个咪唑环之间的动态C-N共价键响应光照裂解形成低聚物；所述自由基淬灭剂用于确保该光刻胶在曝光解聚形成低聚物后不会自发复原，从而保证光刻胶曝光部分形成的低聚物能被显影液溶解，而未曝光部分不溶于显影液，显影后得到目标正性图案。

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