至微半导体(上海)有限公司;合肥至微微电子有限公司廖世保获国家专利权
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龙图腾网获悉至微半导体(上海)有限公司;合肥至微微电子有限公司申请的专利一种具有氮气吹送的晶圆清洗系统以及晶圆清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115083969B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210795981.8，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种具有氮气吹送的晶圆清洗系统以及晶圆清洗方法是由廖世保;蒋渊;卢证凯;邓信甫设计研发完成，并于2022-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有氮气吹送的晶圆清洗系统以及晶圆清洗方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有氮气吹送的晶圆清洗系统以及晶圆清洗方法，其中，具有氮气吹送的晶圆清洗系统包括：清洗腔、清洗台、移动臂和双流体喷淋组件，清洗腔内设置有清洗台，清洗台上可操作地放置有晶圆片，移动臂设置于清洗腔的外侧，移动臂上安装有双流体喷淋组件，移动臂用于带动双流体喷淋组件移动至晶圆片的正上方。通过对本发明的应用，实现了在对晶圆表面进行清洗的过程中，通过液体喷头和氮气喷头的同时工作并使得氮气喷头的输出端围绕液体喷头的输出端进行运动，形成以近似螺旋状的双流体对晶圆表面进行清洗，并使得相应清洗液或纯净水更为高效地于晶圆的表面均匀扩散，进而保障了晶圆的清洗质量，减少了晶圆表面液斑的产生。
本发明授权一种具有氮气吹送的晶圆清洗系统以及晶圆清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种具有氮气吹送的晶圆清洗系统，其特征在于，包括：清洗腔、清洗台、移动臂和双流体喷淋组件，所述清洗腔内设置有所述清洗台，所述清洗台上可操作地放置有晶圆片，所述移动臂设置于所述清洗腔的外侧，所述移动臂上安装有所述双流体喷淋组件，所述移动臂用于带动所述双流体喷淋组件移动至所述晶圆片的正上方； 其中，所述双流体喷淋组件包括：管路组件、液体喷头和至少一氮气喷头，所述移动臂具有一可移动的移动安装部，所述移动安装部上不同位置设置有所述氮气喷头和所述液体喷头，所述氮气喷头和所述液体喷头均与所述管路组件连接，所述氮气喷头可移动地安装于所述移动安装部上，所述氮气喷头的移动轨迹围绕所述液体喷头设置； 通过液体喷头和氮气喷头的同时工作并使得氮气喷头的输出端围绕液体喷头的输出端进行运动，形成以近似螺旋状的双流体对晶圆表面进行清洗。
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