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龙图腾网获悉深圳市流数科技有限公司申请的专利一种折光仪、探测装置和探测折射率的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115298536B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280002123.1，技术领域涉及：G01N21/41；该发明授权一种折光仪、探测装置和探测折射率的方法是由彭倜;徐凌杰;吴泳智设计研发完成，并于2022-04-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种折光仪、探测装置和探测折射率的方法在说明书摘要公布了：一种折光仪，包括光源模块1、反射模块2、汇聚模块3、感光面阵4、控制模块和处理器；控制模块用于控制光源模块1出射光束，反射模块2用于接收来自光源模块1的光束，当来自光源模块1的光束在反射模块内满足全反射条件时，光束在反射模块2内发生全反射，并入射至汇聚模块3；汇聚模块3用于将来自反射模块2的光束汇聚至汇聚模块3的焦平面上；感光面阵4位于汇聚模块3的焦平面上，控制模块还用于控制感光面阵4对接收到的光束进行探测并输出探测图像；处理器用于根据探测图像确定探测图像中的亮度突变界线，以及根据亮度突变界线的位置确定亮度突变界线对应的折射率。

本发明授权一种折光仪、探测装置和探测折射率的方法在权利要求书中公布了：1.一种折光仪，其特征在于，包括光源模块、反射模块、透镜模块、感光面阵、控制模块和处理器； 所述控制模块用于控制所述光源模块出射光束； 所述反射模块用于接收来自所述光源模块的光束，当来自所述光源模块的光束在所述反射模块内满足全反射条件时，所述光束在所述反射模块内发生全反射，并入射至所述透镜模块；其中，所述反射模块包括至少两种介质，所述两种介质为相邻设置的第一介质和第二介质，所述第一介质的折射率大于所述第二介质的折射率；在所述出射光束中的、从所述第一介质入射至所述第二介质的光束中，部分被所述第二介质全反射至所述透镜模块；所述折光仪还包括探测区，设置在所述反射模块内的其中一个介质的表面上；当所述探测区覆盖有待测液体时，在所述出射光束中的、入射至所述待测液体的光束中，部分被所述待测液体全反射至所述透镜模块； 所述透镜模块用于将来自所述反射模块的光束汇聚至所述透镜模块的焦平面上； 所述感光面阵位于所述透镜模块的焦平面上，所述控制模块还用于控制所述感光面阵对接收到的光束进行探测并输出探测图像； 处理器，用于根据所述探测图像确定所述探测图像中的对应被所述第二介质全反射的光束的第一亮度突变界线和对应被所述待测液体全反射的光束的第二亮度突变界线，以及根据所述第一亮度突变界线和所述第二亮度突变界线分别的位置确定所述待测液体的折射率。

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