ASML荷兰有限公司艾曼·哈穆达获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利基于由光刻设备或过程特性表征的图案表示来选择该图案获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115047719B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210228123.5,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权基于由光刻设备或过程特性表征的图案表示来选择该图案是由艾曼·哈穆达设计研发完成,并于2022-03-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于由光刻设备或过程特性表征的图案表示来选择该图案在说明书摘要公布了:本文描述一种旨在选择用于训练或校准与半导体制造相关的模型的图案的方法和设备。所述方法包括:获得第一图案集合;将所述第一图案集合中的每个图案表示在表示域中,所述表示域对应于电磁函数;以及基于所述表示域,从所述第一图案集合中选择第二图案集合。
本发明授权基于由光刻设备或过程特性表征的图案表示来选择该图案在权利要求书中公布了:1.一种用于模拟半导体制造中的图案化过程的图案选择方法,包括: 获得图案集合; 将所述图案集合中的每个图案表示为表示域中的数据点组,其中,每个数据点表示与在所述图案集合中的给定图案的一部分内的特征相关联的信息;和 基于所述数据点组,从所述图案集合中选择图案子集作为用于所述图案集合中的给定图案与另一图案之间的交互信息的指导。
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