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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116648659B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180004187.0，技术领域涉及：G02F1/1335；该发明授权显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置是由姚磊;张永强;辛昊毅;徐敬义;李峰;李岩锋设计研发完成，并于2021-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置在说明书摘要公布了：本公开提供了显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置。本公开实施例提供的显示基板包括：第一衬底基板；多条扫描线，位于第一衬底基板的一侧，沿第一方向延伸，沿第二方向排列；第一方向和第二方向交叉；多条数据线，与扫描线位于第一衬底基板的同一侧，且与扫描线位于不同层，沿第二方向延伸，沿第一方向排列；多条扫描线和多条数据线划分多个子像素；公共电极层，位于扫描线和数据线背离第一衬底基板的一侧；第一遮光层，与公共电极层接触，包括沿第二方向延伸的多个第一遮光部；第一遮光部位于在第一方向上相邻的子像素之间的区域。

本发明授权显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示面板，其中，所述显示面板包括： 显示基板； 对向基板，与所述显示基板相对设置； 液晶层，位于所述对向基板和所述显示基板之间； 所述显示基板包括： 第一衬底基板； 多条扫描线，位于所述第一衬底基板的一侧，沿第一方向延伸，沿第二方向排列；所述第一方向和所述第二方向交叉； 多条数据线，与所述扫描线位于所述第一衬底基板的同一侧，且与所述扫描线位于不同层，沿所述第二方向延伸，沿所述第一方向排列；多条所述扫描线和多条所述数据线划分多个子像素； 公共电极层，位于所述扫描线和所述数据线背离所述第一衬底基板的一侧； 第一遮光层，与所述公共电极层接触，包括沿所述第二方向延伸的多个第一遮光部；所述第一遮光部位于在第一方向上相邻的所述子像素之间的区域； 所述公共电极层位于所述第一遮光部背离所述第一衬底基板的一侧； 所述第一遮光部在所述第一衬底基板的正投影落入所述公共电极层在所述第一衬底基板的正投影内，所述公共电极层覆盖所述第一遮光部的侧面； 所述显示基板还包括： 像素电极层，所述第一遮光部在所述第一衬底基板的正投影与所述像素电极层在所述第一衬底基板的正投影互不交叠； 所述数据线位于所述扫描线背离所述第一衬底基板一侧； 所述子像素包括薄膜晶体管；所述薄膜晶体管的栅极与所述扫描线同层设置且电连接；所述薄膜晶体管的源极与所述数据线同层设置且电连接；所述薄膜晶体管的漏极位于所述源极背离所述第一衬底基板的一侧； 所述第一遮光层的厚度大于等于300埃且小于等于1000埃； 所述对向基板包括第二遮光层；所述第二遮光层包括多个开口区；所述第一遮光层在所述第一衬底基板的正投影落入所述第二遮光层在所述第一衬底基板的正投影内； 所述第一遮光层的材料包括遮光金属。

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