东京毅力科创株式会社堂込公宏获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113903646B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110738099.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台是由堂込公宏设计研发完成，并于2021-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台在说明书摘要公布了：本发明提供能够容易地更换等离子体处理装置的消耗部件的等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台。等离子体处理装置的载置台包括晶片载置面、环载置面、升降销和驱动机构。晶片载置面用于载置晶片。环载置面用于载置第1环和第2环。第2环配置在第1环的外周侧并且配置在与该第1环在上下方向不重叠的位置。环载置面在和第1环与第2环的边界对应的位置具有孔。环载置面设置在晶片载置面的外周侧。升降销具有第1保持部和第2保持部。第2保持部在第1保持部的轴向上与第1保持部相连，第2保持部具有从第1保持部的外周突出的突出部。升降销能够以第1保持部位于环载置面侧的方式被收纳在环载置面的孔内。驱动机构用于可升降地驱动升降销。
本发明授权等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置的载置台，其特征在于，包括： 用于载置晶片的晶片载置面； 设置在所述晶片载置面的外周侧的环载置面，其用于载置第1环和第2环，所述第2环配置在所述第1环的外周侧并且配置在与所述第1环在上下方向不重叠的位置，所述环载置面在和所述第1环与所述第2环的边界对应的位置具有孔； 升降销，其具有第1保持部和第2保持部，所述第2保持部在所述第1保持部的轴向上与所述第1保持部相连，所述第2保持部具有从所述第1保持部的外周突出的突出部，所述升降销能够以所述第1保持部位于所述环载置面侧的方式被收纳在所述环载置面的孔内；和 驱动机构，其用于可升降地驱动所述升降销， 所述第2保持部具有与被载置在所述环载置面上的所述第1环和所述第2环各自的一部分在上下方向彼此重叠的横截面， 所述第1保持部具有与被载置在所述环载置面上的所述第1环和所述第2环中的任一者在上下方向彼此重叠的横截面。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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