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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115917431B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180039928.9，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法是由牛山爱菜;高田晓;小岛雅史;后藤研由;白川三千纮;加藤启太设计研发完成，并于2021-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供一种即使在长期保存后也能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的课题还在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自化合物I及III中的1种以上。

本发明授权感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂以及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物， 所述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含下述化合物（I）及（II）中的任意一种以上， 化合物（I）：具有1个以上的下述结构部位X和1个以上的下述结构部位Y、以及由通过酸的作用而脱离的脱离基保护极性基团而成的酸分解性基团，并且通过光化射线或放射线的照射而产生包含来源于下述结构部位X的下述第1酸性部位及来源于下述结构部位Y的下述第2酸性部位的酸， 结构部位X：由阴离子部位A1 -及阳离子部位M1 +组成，并且通过光化射线或放射线的照射而形成由HA1表示的第1酸性部位， 结构部位Y：由阴离子部位A2 -及阳离子部位M2 +组成，并且通过光化射线或放射线的照射而形成由HA2表示的第2酸性部位， 其中，化合物（I）满足下述条件IA及条件IB， 条件IA：在所述化合物（I）中，用H+取代所述结构部位X中的所述阳离子部位M1 +及所述结构部位Y中的所述阳离子部位M2 +而成的化合物PI具有：酸解离常数a1，其来源于用H+取代所述结构部位X中的所述阳离子部位M1 +而成且由HA1表示的酸性部位；以及酸解离常数a2，其来源于用H+取代所述结构部位Y中的所述阳离子部位M2 +而成且由HA2表示的酸性部位，并且，所述酸解离常数a2大于所述酸解离常数a1， 条件IB：所述化合物（I）是在酸的作用下，连接1个以上的所述结构部位X中的阴离子部位A1 -与1个以上的所述结构部位Y中的阴离子部位A2 -的部位不被切断的结构， 化合物（II）：具有2个以上的所述结构部位X和1个以上的下述结构部位Z、以及由通过酸的作用而脱离的脱离基保护极性基团而成的酸分解性基团，并且通过光化射线或放射线的照射而产生包含2个以上的来源于所述结构部位X的所述第1酸性部位及所述结构部位Z的酸， 结构部位Z：能够中和酸的非离子性部位， 其中，化合物（II）满足下述条件IIB， 条件IIB：所述化合物（II）是在酸的作用下，连接2个以上的所述结构部位X中的阴离子部位A1 -与所述结构部位Z的部位不被切断的结构， 所述酸分解性基团表示由下述式（1）或（2）表示的基团， 式（1）中，R11～R13分别独立地表示烷基、环烷基、烯基或芳基，另外，R11～R13中的2个任选彼此键合而形成环，表示键合位置， 式（2）中，R2表示烷基或环烷基，R3表示氢原子、烷基或环烷基，另外，R2及R3任选彼此键合而形成环，表示键合位置。

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