广州方邦电子股份有限公司苏陟获国家专利权
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龙图腾网获悉广州方邦电子股份有限公司申请的专利电磁散射膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112886264B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911199858.4，技术领域涉及：H01Q15/02；该发明授权电磁散射膜是由苏陟;高强设计研发完成，并于2019-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本电磁散射膜在说明书摘要公布了：本发明涉及一种电磁散射膜，包括导电层，导电层的第一表面间隔设置有多个凹槽，凹槽的内壁呈球面状，每个凹槽的内壁上开设有至少一个第一通孔，第一通孔的另一端贯穿于与第一表面相对的第二表面，第一通孔的截面的轮廓上任意两点距离S中的最大值小于入射至第一通孔的电磁波的波长λ。该电磁散射膜通过在第一表面设置球面状凹槽，并在第二表面设置与凹槽连通的第一通孔，使电磁波在穿过电磁散射膜时发生衍射和反射，进而使电磁波的传播方向发散，扩大传播范围。
本发明授权电磁散射膜在权利要求书中公布了：1.一种电磁散射膜，其特征在于，包括导电层1，所述导电层1的第一表面间隔设置有多个凹槽10，所述凹槽10的内壁呈球面状，每个所述凹槽10的内壁上开设有至少一个第一通孔11，所述第一通孔11的另一端贯穿于与所述第一表面相对的第二表面，所述第一通孔11的截面的轮廓上任意两点距离S中的最大值小于入射至所述第一通孔11的电磁波的波长λ； 沿所述第一表面的至少一个方向，相邻两个所述凹槽10之间的间距呈中部大两侧小的趋势设置，相邻两个所述凹槽10之间的间距为所述第一表面上相邻两个所述凹槽10的轮廓线上最近两点之间的直线距离； 每个凹槽10的内壁上开设有多个第一通孔11，每个凹槽10中，多个所述第一通孔11的轴线与所述凹槽10的内壁的交点到第一表面的距离h大于所述凹槽10的深度H的最大值的二分之一。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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