三星显示有限公司金柄范获国家专利权
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龙图腾网获悉三星显示有限公司申请的专利晶体管面板、显示设备和制造薄膜晶体管面板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111508969B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911294901.5，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权晶体管面板、显示设备和制造薄膜晶体管面板的方法是由金柄范;河宪植;黄珍皓设计研发完成，并于2019-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶体管面板、显示设备和制造薄膜晶体管面板的方法在说明书摘要公布了：本公开涉及一种晶体管面板、显示设备和制造薄膜晶体管面板的方法。所述晶体管面板可以包括衬底、晶体管、第一无机缓冲层以及无机含氟缓冲层。晶体管可以与衬底重叠并且可以包括半导体层。第一无机缓冲层可以被设置在衬底与半导体层之间。无机含氟缓冲层可以被设置在第一无机缓冲层与半导体层之间并且可以包含在0.5at％至2at％范围内的氟。
本发明授权晶体管面板、显示设备和制造薄膜晶体管面板的方法在权利要求书中公布了：1.一种晶体管面板，其中，所述晶体管面板包括： 衬底； 晶体管，所述晶体管与所述衬底重叠并且包括半导体层； 第一无机缓冲层，所述第一无机缓冲层被设置在所述衬底与所述半导体层之间； 无机含氟缓冲层，所述无机含氟缓冲层被设置在所述第一无机缓冲层与所述半导体层之间并且直接接触所述半导体层，并且所述无机含氟缓冲层包含在0.5at％至2at％范围内的氟；以及第二无机缓冲层，所述第二无机缓冲层介于所述第一无机缓冲层与所述无机含氟缓冲层之间，其中，所述第一无机缓冲层和所述第二无机缓冲层中的至少一者包含氟，并且其中，所述第一无机缓冲层中的含氟量和所述第二无机缓冲层中的含氟量中的每一者小于所述无机含氟缓冲层中的含氟量。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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