东京毅力科创株式会社绫部刚获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和基片处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111987028B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010391521.X，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权基片处理装置和基片处理方法是由绫部刚设计研发完成，并于2020-05-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和基片处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供基片处理装置和基片处理方法。本发明的基片处理装置包括载置部、输送部、检测部和修正部。在载置部能够载置承载器，该承载器具有能够收纳多个基片的多个槽。输送部基于设定在载置部的基准收纳位置，对槽送入送出基片。检测部检测收纳于槽的基片的位置。修正部基于端口累积信息修正基准收纳位置，该端口存储信息中累积有以往载置于载置部的多个承载器中检测部的检测结果。本发明能够实现位置检测处理的高效化。
本发明授权基片处理装置和基片处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 用于载置承载器的载置部，所述承载器具有能够收纳多个基片的多个槽； 输送部，其基于设定在所述载置部的基准收纳位置，对所述槽送入送出所述基片； 检测部，其检测收纳于所述槽的所述基片的位置； 基于端口累积信息修正所述基准收纳位置的修正部，其中所述端口累积信息中累积有以往载置于所述载置部的多个所述承载器中所述检测部的检测结果； 盖体开闭机构，其对载置于所述载置部的所述承载器的盖体进行开闭； 异常判断部，其基于由所述检测部检测到的所述基片的位置与所述基准收纳位置的比较，判断所述承载器的异常；和开闭控制部，其对每个所述承载器，基于累积有所述异常判断部的判断结果的承载器异常累积信息，在该承载器被载置到所述载置部之后，由所述检测部进行检测处理之前，控制所述盖体开闭机构，使其以不使所述盖体升降的方式进行开闭所述盖体的动作。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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