东京毅力科创株式会社M·韦尔巴斯获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利载置台装置和基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113921444B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110727345.7，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权载置台装置和基片处理装置是由M·韦尔巴斯;津田荣之辅;朝仓贤太朗设计研发完成，并于2021-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本载置台装置和基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供载置台装置和基片处理装置，能够抑制载置台中的供升降销升降的销孔的周围、升降销成为低温部位，而载置面的温度在面内变得不均匀的情况，其中，载置台具有能够载置基片的载置面。载置台装置包括：载置台，其具有销孔，并且具有能够载置基片的载置面；能够在上述销孔中升降的升降销；和使上述升降销升降的升降机，上述载置台在其内部具有加热上述载置台的第1加热部，上述升降销在其内部或者周围具有加热上述升降销的第2加热部。
本发明授权载置台装置和基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种载置台装置，其特征在于，包括： 载置台，其具有多个销孔，并且具有能够载置基片的载置面； 能够在多个所述销孔中升降的多个升降销； 支承多个所述升降销的支承部件；和使支承多个所述升降销的所述支承部件升降的升降机，所述载置台在其内部具有加热所述载置台的第1加热部，所述支承部件中的多个所述升降销各自在其周围具有加热该升降销的第2加热部。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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