株式会社日立制作所矶崎洋平获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立制作所申请的专利断口分析装置和断口分析方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114026597B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080046983.6,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权断口分析装置和断口分析方法是由矶崎洋平;植木洋辅设计研发完成,并于2020-04-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本断口分析装置和断口分析方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种断口分析装置和断口分析方法,使得非熟练人员也能够实施与熟练人员同样的断口分析。其特征在于,包括微观区域观察部,该微观区域观察部包括:第一单元,其针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像,计算破坏模式的准确度;第二单元,其计算能够提高破坏模式的准确度的观察条件;和第三单元,其调节微观区域的摄像单元的拍摄条件,并且,将破坏模式的准确度和能够提高破坏模式的准确度的观察条件输出至可视化单元。
本发明授权断口分析装置和断口分析方法在权利要求书中公布了:1.一种断口分析装置,其特征在于: 包括微观区域观察部,所述微观区域观察部包括: 第一单元,其针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的第一观察像,计算破坏模式的准确度; 第二单元,其计算能够提高所述破坏模式的准确度的包括倍率、观察位置在内的观察条件;和第三单元,其调节所述微观区域的摄像单元的拍摄条件,将所述破坏模式的准确度和能够提高所述破坏模式的准确度的观察条件输出至可视化单元,并且,所述第一单元包括神经网络,该神经网络以包括被分析物的裂纹产生、发展并最终达到破坏的断口的观察像在内的观察像为处理对象且对观察像与破坏模式的关系进行了学习,其中,所述第一单元使用已学习神经网络针对所述第一观察像按每种所述破坏模式求取该第一观察像最终达到破坏的准确度,所述第二单元针对被分析物的由微观区域的摄像单元得到的所述第一观察像,求取改变其观察条件时来自所述第一单元的多个破坏模式的准确度中准确度高时的观察条件。
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