ASML荷兰有限公司W·T·特尔获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利对产品特征使用AT分辨率量测的晶片对准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115516383B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180034149.X，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权对产品特征使用AT分辨率量测的晶片对准方法是由W·T·特尔;H·A·迪伦;M·J·基亚;R·沃克曼;寇伟田设计研发完成，并于2021-05-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本对产品特征使用AT分辨率量测的晶片对准方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种确定产品特征在衬底上的位置的方法，该方法包括：获得衬底上的一个或多个产品特征的多个位置测量结果，其中该测量结果被参考到用于在测量之间放置衬底的定位系统，或平行于衬底的表面的平面；并且，基于位置测量结果确定衬底的失真分量。
本发明授权对产品特征使用AT分辨率量测的晶片对准方法在权利要求书中公布了：1.一种确定衬底的失真分量的方法，包括： 获得衬底上的一个或多个产品特征以及所述衬底的一个或多个对准标记的多个位置测量结果，其中，所述一个或多个产品特征的所述测量结果被参考到用于放置所述衬底的定位系统，或平行于所述衬底的表面的平面；并且，基于所述多个位置测量结果，确定所述衬底的失真分量。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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