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龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利一种电镀综合废水的深度脱氮工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116924600B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310768026.X，技术领域涉及：C02F9/00；该发明授权一种电镀综合废水的深度脱氮工艺是由宋嵩;陈元彩设计研发完成，并于2023-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电镀综合废水的深度脱氮工艺在说明书摘要公布了：本发明公开一种电镀综合废水的深度脱氮工艺。本发明将Fenton稀土催化氧化和厌氧生物作为预处理，好氧部分硝化APN、好氧同步反硝化ASD与改良的厌氧污泥床ASB相结合，在好氧池中接种ASD生物化菌群，在低碳氮比条件下实现氨氮部分硝化和好氧同步反硝化；在厌氧污泥床ASB中加入硫自养反硝化菌种SAD、硫磺及微量元素，在无外加碳源的条件下，实现总氮及有机物的高效去除，降低了处理成本。本发明可以解决电镀综合废水生物毒性强、碳源不足、脱氮效率不佳以及外加碳源成本高，二次污染严重的问题，为电镀综合废水深度脱氮除碳提供了技术支撑。

本发明授权一种电镀综合废水的深度脱氮工艺在权利要求书中公布了：1.一种电镀综合废水的深度脱氮工艺，采用好氧部分硝化、同步反硝化与改良的厌氧污泥床耦合的工艺，其特征在于，废水调节池、Fenton催化氧化池、酸化水解池、好氧池、厌氧污泥床ASB串联使用，所述好氧池为好氧部分硝化、同步反硝化池；厌氧污泥床ASB是一种改良的硫自养反硝化污泥床； 包括如下步骤： 1废水调节池废水调节池水力停留时间为8‑12小时，pH控制在6.5~7.5； 2Fenton催化氧化池经调节池均质后的废水流入Fenton催化氧化池，破坏废水中对微生物有害的高分子难降解有机物，去除重金属有毒物质及化学除磷；Fenton催化氧化池加酸调节pH ，再分别依次加入稀土催化剂、Fenton试剂和絮凝剂；沉淀池的上清液加碱调节pH后进入酸化水解池； 所述稀土催化剂为ReSO4 ；所述Fenton试剂为FeSO4和H2O2；所述絮凝剂为PAM； Fenton催化氧化池中加酸调节pH至 2‑5，再分别加入稀土催化剂、硫酸亚铁、双氧水和絮凝剂，投加量分别为20‑50mgL、500‑700mgL、200‑300mgL和10‑20mgL；形成的矾花进入沉淀池泥水分离；沉淀池产生的上清液加碱调节pH至6‑8后进入酸化水解池，Fenton催化氧化池中的反应池、沉淀池和pH调节池水力停留时间分别为1‑2.0小时、4‑5小时和0.5‑0.8小时，温度为15~35℃； 3酸化水解池废水在酸化水解池中被进一步破坏高分子难降解有机物后的废水进入厌氧沉淀池进行泥水分离；厌氧沉淀池产生的污泥全部回流到酸化水解池前端，上清液进入好氧部分硝化、同步反硝化池； 4 好氧池所述好氧池在好氧条件下通过自养硝化细菌完成氨氮的部分硝化，通过接种的好氧异养反硝化菌利用废水中的有机碳源实现氨氮和硝态氮的同步去除；好氧污泥沉淀池产生的污泥回流至好氧池前段与废水、回流硝化液混合后再反应；好氧污泥沉淀池产生的上清液进入改良的厌氧污泥床ASB； 好氧部分硝化、同步反硝化池内接入不动杆菌GDMCC 1.586；鞘氨醇单胞菌GDMCC 1.696和蜡样芽胞杆菌GDMCC 801530，接种比例为2~4%，好氧池水力停留时间为15‑30小时，固体停留时间为9~12 d，好氧池内活性污泥浓度控制在5000~9000 mgL，pH为7.0~7.5，温度为15~35℃，溶解氧浓度控制在0.5 ~ 2.5mgL，ORP控制在‑10 ~ +250mv，曝气方式为微孔曝气；好氧池末端硝化液回流至好氧池前端与来自厌氧沉淀池的废水混合后再反应，硝化液回流比为：200~300%；好氧污泥沉淀池的表面负荷0.5~1.2m3m2·h,水力停留时间为3~4 h,固体负荷为30‑90kgm2·d，沉淀产生的污泥根据反应效果采用全部回流或部分回流到好氧池前端与来自厌氧沉淀池的废水混合后再反应；剩余污泥经脱水后外运；部分回流的回流比80‑100%； 5 厌氧污泥床ASB厌氧污泥床ASB进一步反硝化除去硝态氮，厌氧污泥床ASB中按比例依次加入硫自养反硝化菌种，粉末硫磺及微量元素，接种后经过驯化培养达到要求的浓度后使用，污泥床出水经过滤后达标排放； 厌氧污泥床ASB中加入硫自养反硝化菌种和粉末硫磺；菌种接种比例为5~10%，粉末硫磺投加量以处理水量计为15‑30mgL，在厌氧污泥中定期补充微量元素Co,投加量以处理水量计为2‑5mgL。

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