杭州广立微电子股份有限公司杨璐丹获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州广立微电子股份有限公司申请的专利一种测试结构版图处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117056549B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310935352.5,技术领域涉及:G06F16/583;该发明授权一种测试结构版图处理方法是由杨璐丹;潘伟伟;刘永利;彭焱设计研发完成,并于2023-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种测试结构版图处理方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种测试结构版图处理方法,包括选取目标结构;对版图进行自动截图:定义截图时包含的图层;以所述目标结构顶层单元的名称命名截图图像,并将截图名称标注于截图图像中;获取所述目标结构的引脚名称,标注于截图图像中;预设评价截图图像分辨率的尺寸阈值,基于所述阈值,完成截图;自动生成截图文件,用于数据分析。提供了可行的自动截图方案,能够提供测试结构版图信息,截图图像直接用于数据分析,大幅提高分析速度和精准度,避免频繁查询实际版图文件,降低时间成本、提高工作效率,利于芯片测试工艺水平的深度优化。
本发明授权一种测试结构版图处理方法在权利要求书中公布了:1.一种测试结构版图处理方法,其特征在于:包括:读取初始版图文件,选取目标结构; 对版图进行自动截图: 定义截图时包含的图层; 以所述目标结构顶层单元的名称命名截图图像,并将截图名称标注于截图图像中; 获取所述目标结构的引脚名称,标注于截图图像中; 预设评价截图图像分辨率的尺寸阈值,基于所述阈值,完成截图; 自动生成截图文件,用于数据分析; 其中,基于所述阈值,完成截图的方法包括: 比较所述目标结构的尺寸与所述阈值,自动判断截图图像是否清晰可读; 当所述目标结构的尺寸大于所述阈值时,生成所述目标结构的细节截图; 其中细节截图的截取方式包括: 一、基于所述目标结构的层级,找到最小的重复结构,对最小的重复结构进行截图; 二、识别后端图层连接,自动识别连接端口,对连接端口进行截取。
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