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龙图腾网获悉广州大学申请的专利消除“咖啡环”现象的喷墨印刷小分子薄膜制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118755309B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410982805.4，技术领域涉及：C09D11/30；该发明授权消除“咖啡环”现象的喷墨印刷小分子薄膜制备工艺是由罗东向;尚鑫;张梦龙;刘佰全;杨思恩设计研发完成，并于2024-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本消除“咖啡环”现象的喷墨印刷小分子薄膜制备工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了消除“咖啡环”现象的喷墨印刷小分子薄膜制备工艺，属于喷墨印刷技术领域，配制含有小分子材料的喷墨印刷溶液，其中溶液包括小分子材料、有机溶剂、表面活性剂和粘度调节剂，超声波处理对喷墨印刷溶液进行均质化处理，将均质化处理后的溶液通过喷墨打印头均匀喷射至基底表面，最后使用热处理或紫外光照射对喷射后的薄膜进行固化处理，以提高薄膜的机械强度和稳定性，通过优化溶液组分、均质化处理、精确控制喷射参数和多种改性处理方法，有效消除了“咖啡环”现象，提高了薄膜的均匀性、机械强度、透光率和附着力，适用于多种基底和应用场景，具有显著的工业应用价值和推广前景。

本发明授权消除“咖啡环”现象的喷墨印刷小分子薄膜制备工艺在权利要求书中公布了：1.消除“咖啡环”现象的喷墨印刷小分子薄膜制备工艺，其特征在于：包括以下步骤： S1、配制含有小分子材料的喷墨印刷溶液，其中溶液包括小分子材料、有机溶剂、表面活性剂和粘度调节剂，预先采用功能性纳米颗粒对小分子材料进行功能化改性处理，所述功能性纳米颗粒为二氧化硅纳米颗粒或者氧化铝纳米颗粒，用量占小分子材料质量的1‑10％，具体步骤如下： S11、将功能性纳米颗粒分散在乙醇中，加入用量占0.1‑1％vv的修饰剂，当功能性纳米颗粒为二氧化硅纳米颗粒时，修饰剂采用APTES，当功能性纳米颗粒为氧化铝纳米颗粒时，修饰剂采用MPTMS，在室温下搅拌2‑4小时，随后通过离心或过滤去除未反应的修饰剂； S12、将修饰后的功能性纳米颗粒重新分散在有机溶剂中，浓度为1‑10mgmL； S13、将小分子材料溶解在相同的溶剂中，浓度为1‑10mgmL； S14、在室温下，将功能性纳米颗粒分散液缓慢加入小分子材料溶液中，边搅拌边加入，搅拌1‑2小时； S2、通过超声波处理对喷墨印刷溶液进行均质化处理，以确保溶液的均匀性； S3、将均质化处理后的溶液通过喷墨打印头均匀喷射至基底表面； S4、在喷射过程中，控制喷射参数，使液滴的形成和沉积过程稳定； S5、使用热处理或紫外光照射对喷射后的薄膜进行固化处理，以提高薄膜的机械强度和稳定性。

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