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龙图腾网获悉中国原子能科学研究院申请的专利基于随机抽样的解谱的不确定度分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118884506B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410902735.7，技术领域涉及：G01T3/00；该发明授权基于随机抽样的解谱的不确定度分析方法是由胡晓;黄毅;夏兆东;宁通设计研发完成，并于2024-07-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于随机抽样的解谱的不确定度分析方法在说明书摘要公布了：本申请的实施例涉及中子辐射测量技术领域，特别涉及一种基于随机抽样的解谱的不确定度分析方法。方法包括如下步骤：S1：将多个探测箔放入待测中子场进行照射。S2：取出照射后的探测箔，对探测箔的活度进行测量。S3：根据测量的探测箔的活度，确定探测箔的饱和活度。S4：根据饱和活度以及探测箔的反应截面，确定待测中子场的能谱。S5：确定导致S4步骤确定的能谱的不确定度的因素。S6：根据S5步骤所确定的因素，分别对其进行随机抽样处理。S7：基于S6步骤的随机抽样处理的结果，确定解谱的不确定度。本申请的实施例提供的分析方法，能够获得中子能谱解谱的不确定度分析结果。

本发明授权基于随机抽样的解谱的不确定度分析方法在权利要求书中公布了：1.一种基于随机抽样的解谱的不确定度分析方法，所述解谱是对获得的中子能谱进行解谱，其特征在于，其包括如下步骤： S1：将多个探测箔放入待测中子场进行照射； S2：取出照射后的探测箔，对所述探测箔的活度进行测量； S3：根据测量的所述探测箔的活度，确定所述探测箔的饱和活度； S4：根据所述饱和活度以及所述探测箔的反应截面，确定所述待测中子场的能谱； S5：确定导致S4步骤确定的所述能谱的不确定度的因素； S6：根据S5步骤所确定的因素，分别对其进行随机抽样处理； S7：基于S6步骤的随机抽样处理的结果，确定所述解谱的不确定度； 在S5步骤中，确定的所述能谱的不确定度的因素为所述探测箔的反应截面； 所述方法还包括如下步骤： 确定反应截面的协方差矩阵； 对所述协方差矩阵进行分解，在进行分解时，所述协方差矩阵出现的负的特征值时该特征值设置为0或一个较小的正数； 基于随机抽样，对分解后获得的矩阵进行处理，确定所述反应截面的扰动因子； 根据所述扰动因子，确定扰动后的反应截面，根据扰动后的反应截面，确定所述解谱的不确定度； 所述扰动后的反应截面满足如下表达式： =； 其中，表示扰动后的反应截面，是所述反应截面的初始值，P为反应截面的扰动因子，T为矩阵转置符号，=； 是服从0,1正态分布的随机值，由拉丁超立方抽样方法得到，； 为所述协方差矩阵，V的列向量矩阵是对称矩阵的特征向量，D是对应特征向量的特征值的对角矩阵； 在S5步骤中，确定的所述能谱的不确定度的因素为所述探测箔的饱和活度； 确定所述探测箔的饱和活度的不确定度的来源，根据所述来源，确定所述探测箔的饱和活度的不确定度； 基于随机抽样，对所述饱和活度的不确定度进行处理，确定扰动后的饱和活度； 根据扰动后的饱和活度，确定所述解谱的不确定度； 所述探测箔的饱和活度的不确定度的来源包括： 与所述探测箔反应的核子数相关的不确定度，该不确定度为1%； 与时间参数相关的不确定度，该不确定度为1%； 与获得的探测箔的活度测量值相关的不确定度，其采用如下步骤确定： 获得所述探测箔的活度测量值的峰面积，所述峰面积的不确定度满足以下表达式： ； 式中，表示峰面积的不确定度，表示测得的某种特定γ射线的光峰面积总计数，表示峰面积的统计偏差； 与包括所述探测箔的辐照位置偏差以及所述探测箔之间相互干扰引入的不确定度，该不确定度为2%‑4%之间； 所述饱和活度的不确定度满足如下表达式： ，式中j表示影响饱和活度测量各种因素，A为测得的活度，表示因素j导致的活度不确定度，为测得的活度的不确定度； 基于随机抽样，对所述饱和活度的不确定度进行处理，确定扰动后的饱和活度。

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