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龙图腾网获悉清华大学深圳国际研究生院申请的专利一种全局高动态的曝光干涉场锁定装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119165736B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411134683.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种全局高动态的曝光干涉场锁定装置和方法是由李星辉;钟子健设计研发完成，并于2024-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种全局高动态的曝光干涉场锁定装置和方法在说明书摘要公布了：一种全局高动态的曝光干涉场锁定装置和方法，包括提供相干光束的第一和第二光束路径、与待曝光加工的光栅基板共面布置的参考光栅、设置在第一光束路径上的光程差调整装置、设置在第二光束路径上的入射角调整装置和莫尔条纹检测传感器，曝光干涉场通过参考光栅产生莫尔条纹，莫尔条纹检测传感器检测莫尔条纹的整体平移变化和整体伸缩变化，控制器根据莫尔条纹的整体平移变化，控制光程差调整装置调整第一和第二光束之间的光程差以实现曝光干涉场的相位锁定，并根据莫尔条纹的整体伸缩变化，控制入射角调整装置调整第一和第二光束之间的相对入射角度以实现曝光干涉场的周期锁定。本发明有效提高了光栅全息加工曝光过程中曝光干涉场的稳定性。

本发明授权一种全局高动态的曝光干涉场锁定装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种全局高动态的曝光干涉场锁定装置，其特征在于，包括提供相干光束的第一光束路径和第二光束路径、待曝光的光栅基板、与待曝光加工的光栅基板共面布置的参考光栅、设置在第一光束路径上的光程差调整装置、设置在第二光束路径上的入射角调整装置、莫尔条纹检测传感器以及控制器，第一光束和第二光束照射到所述光栅基板上形成曝光干涉场，并通过所述参考光栅产生莫尔条纹，其中，所述莫尔条纹检测传感器检测莫尔条纹的整体平移变化和整体伸缩变化，所述控制器计算反馈控制信号，根据莫尔条纹的整体平移变化，控制所述光程差调整装置调整第一光束和第二光束之间的光程差以实现曝光干涉场的相位锁定，并根据莫尔条纹的整体伸缩变化，控制所述入射角调整装置调整第一光束和第二光束之间的相对入射角度以实现曝光干涉场的周期锁定；其中，所述控制器经配置以执行以下操作：通过互相关运算，计算检测到的莫尔条纹上的采样线的实时光强分布曲线与初始光强分布曲线之间的差异，确定莫尔条纹的相位和周期漂移量；根据互相关运算的结果，执行控制算法以计算所需的反馈控制信号； 所述控制算法为比例控制算法、恒定步长控制算法或比例‑积分‑微分PID控制算法； 其中，所述比例控制算法包括： 接收相位采样线的像素漂移值作为输入； 根据像素漂移值乘以设定的比例系数，计算出相应的反馈控制电压； 将反馈控制电压施加于所述光程差调整装置，以实现莫尔条纹的整体平移运动锁定； 接收周期采样线的像素漂移值作为输入； 根据像素漂移值乘以设定的比例系数，计算出相应的反馈控制电压； 将反馈控制电压施加于所述入射角调整装置，以实现莫尔条纹的整体伸缩运动锁定； 其中，所述恒定步长控制算法包括： 监测到条纹出现某一方向的漂移时，控制所述光程差调整装置或所述入射角调整装置朝相反方向以恒定步长运动，循环执行直到漂移为零； 其中，所述比例‑积分‑微分PID控制算法包括： 比例环节，根据监测到的漂移幅值计算控制量； 积分环节，对漂移幅值随时间进行积分，以增强控制效果； 微分环节，预测漂移的未来趋势，以加快控制系统的响应。

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