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龙图腾网获悉安徽禾臣新材料有限公司申请的专利一种高清洁度的IC芯片石英基板的涂胶工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119291997B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411709809.1，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权一种高清洁度的IC芯片石英基板的涂胶工艺是由李加海;高伟东;曹荣府设计研发完成，并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高清洁度的IC芯片石英基板的涂胶工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高清洁度的IC芯片石英基板的涂胶工艺，涉及光刻机技术领域。为了解决滴加光刻胶的方式可能难以完全避免气泡的产生，特别是在高纵横比的结构中，变速旋转虽然有助于改善涂层的均匀性，但对于某些复杂形状或尺寸的石英基板，可能仍难以达到理想的涂胶效果的问题；通过预热处理和真空吸附装置确保了基板在涂胶过程中的稳定性，结合视觉检测装置对基板表面进行检查，确保了基板的高清洁度，为涂胶工艺提供了良好的起始条件，极紫外光刻过程中的精确控制，提高了光刻胶与基板的附着力，改善了光刻胶的蚀刻抵抗性，通过视觉检查和后烘处理，确保了显影后石英基板表面图形结构的质量，显著提高了IC芯片的整体制造质量和效率。

本发明授权一种高清洁度的IC芯片石英基板的涂胶工艺在权利要求书中公布了：1.一种高清洁度的IC芯片石英基板的涂胶工艺，其特征在于，包括以下步骤： 步骤一：基板预处理：将石英基板置于超声波清洗机中，使用去离子水和清洗剂进行清洗，使用氮气吹干基板，并置于无尘室中静置； 步骤二：光刻胶涂覆：选择适用于极紫外光刻的光刻胶，使用精密涂胶设备，将光刻胶均匀涂覆在石英基板上； 光刻胶涂覆，具体包括： 光刻胶选择：基于光刻胶的类别进行关键指标提取，所述关键指标包括：粘度、固化速度及抗蚀刻性能的关键指标，基于提取的关键指标进行性能评估，并基于性能评估结果确定光刻胶； 涂覆控制：基于石英基板的尺寸和外形进行涂覆设备选择，涂覆设备均匀且连续地将选定的光刻胶涂覆于石英基板上，在涂胶过程中，实时获取反馈，动态控制涂胶速度、旋转速度和涂胶量； 动态控制涂胶速度、旋转速度和涂胶量，具体包括： 涂覆设备选择结果为旋涂机时，旋涂机以500rpm的旋转速度将光刻胶均匀铺展在石英基板表面，后逐渐提高旋转速度至2500rpm，持续5‑8s； 同时，旋涂机传感器实时监测光刻胶的涂覆状态，包括厚度、均匀性和气泡产生情况； 若检测到涂层不均匀及气泡产生时，则立即调整涂胶速度至±10%的精确度、旋转速度至±50rpm的精确度，以及涂胶量至±0.5μL的精确度； 步骤三：光刻胶固化：将涂覆好的石英基板置于烘干设备中，并根据预设温度和时间进行烘干，对光刻胶进行干燥和固化，并在固化过程中，控制烘干温度和时间； 步骤四：极紫外光刻：将固化后的石英基板送入极紫外光刻机中，采用极紫外光源进行曝光，在光刻过程中，控制曝光时间、光源强度和掩膜版的对准精度，曝光后，使用显影液去除曝光部分及未曝光部分的光刻胶，形成所需的图形结构； 步骤五：后处理：对显影后的石英基板进行坚膜处理，并根据需要进行蚀刻、离子注入的后续工艺，以完成IC芯片的制造。

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