浙江大学杭州国际科创中心周国栋获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学杭州国际科创中心申请的专利光刻胶旋涂工艺仿真方法以及计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119358440B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411362877.5，技术领域涉及：G06F30/28；该发明授权光刻胶旋涂工艺仿真方法以及计算机设备是由周国栋;郑超怡;葛海文;刘攀;高大为设计研发完成，并于2024-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻胶旋涂工艺仿真方法以及计算机设备在说明书摘要公布了：本申请涉及一种光刻胶旋涂工艺仿真方法以及计算机设备，基于目标晶圆的参数信息以及光刻胶注入口的位置信息，建立扇形仿真网格；扇形仿真网格，为柱状空间中的一个扇形空间区域；柱状空间，为以目标晶圆的表面为底面，以光刻胶注入口所在平面为顶面，进行空间延伸所围成的空间区域；建立两相流流体数学模型；通过目标求解器，根据扇形仿真网格的边界条件、两相流体对应的流体属性以及工艺仿真初始条件，对两相流流体数学模型进行迭代求解，确定光刻胶旋涂工艺仿真结果，提高了光刻胶旋涂工艺仿真效率，避免了传统仿真方法所需的高昂成本和时间消耗的问题，使得工艺参数的调整和优化更加高效、灵活。
本发明授权光刻胶旋涂工艺仿真方法以及计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶旋涂工艺仿真方法，其特征在于，所述方法包括： 基于目标晶圆的参数信息以及光刻胶注入口的位置信息，建立扇形仿真网格；所述扇形仿真网格，为柱状空间中的一个扇形空间区域；所述柱状空间，为以所述目标晶圆的表面为底面，以所述光刻胶注入口所在平面为顶面，进行空间延伸所围成的空间区域；所述光刻胶注入口所在平面平行于所述目标晶圆的表面； 获取所述扇形仿真网格对应的边界条件、两相流体对应的流体属性以及工艺仿真初始条件； 建立两相流流体数学模型； 通过目标求解器，根据所述边界条件、所述流体属性以及所述工艺仿真初始条件，对所述两相流流体数学模型进行迭代求解，确定光刻胶旋涂工艺仿真结果。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江大学杭州国际科创中心，其通讯地址为：311200 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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