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龙图腾网获悉中国科学院大连化学物理研究所申请的专利一种激光解吸后电离装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119381239B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310922403.0，技术领域涉及：H01J49/16；该发明授权一种激光解吸后电离装置是由吴称心;陈平;刘鹏;陈懿;李海洋设计研发完成，并于2023-07-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种激光解吸后电离装置在说明书摘要公布了：本发明涉及质谱分析仪技术领域，具体地说是一种激光解吸后电离装置，包括激光溅射腔体、激光光源组件、真空紫外光源、推斥电极、光电阴极、环形磁铁、样品靶、提取电极及质谱仪。本发明通过采用真空紫外光源照射光电阴极，光电阴极表面因光电效应产生的光电子在磁场和电场作用下获得较高的能量，用于电离激光解吸产生的大量中性粒子羽流，解决了激光电离存在的严重基质效应，大大提高电离的灵敏度。

本发明授权一种激光解吸后电离装置在权利要求书中公布了：1.一种激光解吸后电离装置，其特征在于：包括激光溅射腔体1、激光光源组件、真空紫外光源2、推斥电极3、光电阴极4、环形磁铁5、样品靶6、提取电极7及质谱仪； 所述提取电极7绝缘安装于所述激光溅射腔体1上，所述质谱仪与所述提取电极7的位于激光溅射腔体1外侧部分相连接，所述提取电极7上开设有锥形孔道，所述锥形孔道直径大的一端开口与所述质谱仪的样品输入端相对，所述锥形孔道直径小的一端开口位于激光溅射腔体1内部； 所述推斥电极3及光电阴极4分别安装于所述激光溅射腔体1内部，所述光电阴极4与推斥电极3相互平行，所述推斥电极3位于远离所述提取电极7的一侧，所述推斥电极3上开设有通孔A，所述光电阴极4位于靠近所述提取电极7的一侧，所述光电阴极4上开设有通孔B，所述环形磁铁5安装于所述光电阴极4的靠近所述推斥电极3的一侧面上、并开设有通孔C，所述通孔C的孔径大于所述通孔B的孔径，所述推斥电极3及环形磁铁5之间具有空隙，所述真空紫外光源2安装于所述推斥电极3的远离所述光电阴极4的一侧位置，所述推斥电极3的通孔A的轴向中心线、所述光电阴极4的通孔B的轴向中心线、所述环形磁铁5的通孔C的轴向中心线与所述提取电极7的锥形孔道的轴向中心线均共线，所述真空紫外光源2发出的光线穿过所述通孔A及通孔C、并照射在所述光电阴极4表面上； 所述样品靶6设置于所述激光溅射腔体1内部，所述激光光源组件发出的激光照射于所述样品靶6上、且所述激光光源组件发出的激光在样品靶6上的焦点位置与所述推斥电极3及环形磁铁5之间的空隙位置相对应。

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