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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利一种激光同轴送粉多层沉积轮廓快速预测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119407203B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411520982.7，技术领域涉及：B22F10/37；该发明授权一种激光同轴送粉多层沉积轮廓快速预测方法是由李明健;刘振华;廉艳平设计研发完成，并于2024-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种激光同轴送粉多层沉积轮廓快速预测方法在说明书摘要公布了：本发明涉及金属增材制造技术领域，具体涉及一种激光同轴送粉多层沉积轮廓快速预测方法。所述方法包括如下步骤：获取粉末浓度的空间分布；利用所述空间分布，获得粉末遮蔽后的激光强度分布；根据所述激光强度分布，获得基板温度场；通过所述基板温度场，获得沉积层的接触角和截面面积；基于所述接触角和所述截面面积，构建单道单层沉积轮廓的预测模型；依据所述预测模型，获得单道多层沉积轮廓；根据所述单道多层沉积轮廓，实现对激光同轴送粉多层沉积层轮廓的快速预测。本发明极大提升了不同工艺参数组合下的构件表面形貌预测效率，有效解决了实验过程复杂和成本高的问题，也解决了数值模拟空间分辨率高、计算规模大和时间成本高的问题。

本发明授权一种激光同轴送粉多层沉积轮廓快速预测方法在权利要求书中公布了：1.一种激光同轴送粉多层沉积轮廓快速预测方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤： 获取粉末浓度的空间分布； 利用所述空间分布，获得粉末遮蔽后的激光强度分布； 根据所述激光强度分布，获得基板温度场； 通过所述基板温度场，获得沉积层的接触角和截面面积，包括： 通过所述基板温度场，获得熔池尺寸； 基于所述熔池尺寸，获得粉末利用率和沉积层的接触角； 根据所述粉末利用率，获得沉积层的截面面积； 基于所述接触角和所述截面面积，构建单道单层沉积轮廓的预测模型，包括： 基于所述接触角、所述截面面积和Young‑Laplace方程，构建单道单层沉积轮廓的预测模型，所述Young‑Laplace方程满足如下表达式： 其中，为表面张力系数，为轮廓曲率，为气液表面的压力差值； 所述单道单层沉积轮廓的预测模型满足如下表达式： 其中，为表面张力系数，为轮廓曲线与中心轴距离的一阶导数，为轮廓曲线与中心轴距离的二阶导数，为系数，为重力状态值，为材料密度，为单道单层沉积轮廓，为液态金属体积分数； 依据所述预测模型，获得单道多层沉积轮廓； 根据所述单道多层沉积轮廓，实现对激光同轴送粉多层沉积轮廓的快速预测。

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