河北工业大学;复旦大学檀柏梅获国家专利权
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龙图腾网获悉河北工业大学;复旦大学申请的专利一种基于氧化铈磨料的氧化硅/氮化硅酸性抛光液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119592231B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411920236.7，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种基于氧化铈磨料的氧化硅/氮化硅酸性抛光液及其制备方法是由檀柏梅;韩欣宇;高宝红;屈新萍;石芸慧;牛新环;张凡;王如设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于氧化铈磨料的氧化硅/氮化硅酸性抛光液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明为一种基于氧化铈磨料的氧化硅氮化硅酸性抛光液及其制备方法。该抛光液使用季铵盐类化合物作为离子活性助剂，在酸性条件下通过小粒径氧化铈磨料与氨基酸、表面活性剂和离子活性助剂的共同作用，实现了对氧化硅抛光速率的提高及对氮化硅的抛光速率的抑制，并获得了较低的氧化硅氮化硅表面粗糙度。本发明实现了氧化硅抛光速率在以上、氮化硅抛光速率在以下的同时，氧化硅和氮化硅表面均达到了低于0.1nm的表面粗糙度。
本发明授权一种基于氧化铈磨料的氧化硅/氮化硅酸性抛光液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种基于氧化铈磨料的氧化硅氮化硅酸性抛光液，其特征为该抛光液的组成包括： 氧化铈磨料中氧化铈的质量百分浓度为0.1~1%，氨基酸为DL‑天冬氨酸DL‑Asp和精氨酸Arg，二者在抛光液中的浓度均为0.02molL；表面活性剂的摩尔浓度为0.001~0.1 molL，离子活性助剂的摩尔浓度为0.001~0.1 molL，余量为去离子水，抛光液体系的pH值为3~7； 所述表面活性剂为脂肪醇醚硫酸钠、十二烷基硫酸铵、α‑烯基磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、聚乙二醇PEG、十二烷基苯磺酸钠、烷基酚聚氧乙烯醚中的一种或几种； 所述的离子活性助剂为四丙基氢氧化铵TPAOH、TEAOH、1‑金刚烷基三甲基氢氧化铵ADAOH中的一种或几种。
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