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龙图腾网获悉武汉大学申请的专利一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119753619B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411722915.3，技术领域涉及：C23C16/27；该发明授权一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备装置及方法是由东芳;欧阳宇航;蒋顺勇;侯冬杨;刘胜;吕婷;雷振扬设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备装置及方法在说明书摘要公布了：本发明提出了一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备装置及方法，属于激光沉积领域，选取玻璃材料制备基板，并配置金刚石膜前驱体气体混合物；将基板设置在真空环境中，向真空环境内输送配置好的金刚石膜前驱体气体混合物，在基板表面实施激光沉积，使基板上均匀覆盖金刚石膜；对基板上沉积获得的金刚石膜进行退火和表面特性检测。本发明采用精确配置的前驱体气体混合物辅助真空环境下的激光沉积，减少了杂质和缺陷的产生，并通过控制激光参数与环境条件，优化了金刚石膜的生长过程，提高了基板的热膨胀性与稳定性。

本发明授权一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于激光沉积的金刚石膜玻璃基板制备方法，其特征在于：包括以下步骤，S1，选取玻璃材料制备基板1，并配置金刚石膜前驱体气体混合物，选取甲烷及氢气作为前驱体气体，并根据沉积条件和预期的膜特性设置甲烷及氢气的混合比例； S2，将所述基板1设置在真空环境中，向真空环境内输送配置好的所述金刚石膜前驱体气体混合物，在所述基板1表面实施激光沉积，使所述基板1上均匀覆盖金刚石膜；向所述基板1所在的真空环境内输送金刚石膜前驱体气体混合物时，引入基于机器学习的气体流量预测模型，预测甲烷及氢气的气体流量的变化趋势并进行动态调整，为所述基板1表面激光沉积金刚石膜提供理想的前驱体气体环境；所述甲烷及氢气的气体流量变化趋势的预测模型为，，其中，t为时间，及分别为甲烷和氢气在t时刻的下一时间步的预测流量，Xt为模型的输入特征矩阵，模型的输入特征包括甲烷及氢气的历史气体流量数据、环境条件及设备参数，ht‑1为t‑1时刻的隐状态，θ是模型的可训练参数； 动态调整甲烷与氢气的气体流量的调整公式分别为，，，其中，及分别为下一时间步调整后的甲烷与氢气的气体流量，及为当前时间步的甲烷与氢气的气体流量，α是调整系数并用于平滑气体流量的变化，α取值范围在0到1之间； 通过调节激光功率及脉冲频率来调整金刚石膜在所述基板1上的沉积速率，沉积速率的计算公式为，R=f×AD，其中，R为沉积速率，f为脉冲频率，A为每脉冲沉积的材料厚度，D为所述基板1的有效面积； 在激光沉积过程中监测沉积速率和金刚石膜的沉积厚度，引入基于机器学习的自适应频率调节算法来优化脉冲频率，调整算法公式为，fnew=fold+β×Rtarget‑Rmeasured，其中，β为脉冲频率调节系数，Rtarget为目标沉积速率，Rmeasured为实时监测的沉积速率； S3，对所述基板1上沉积获得的金刚石膜进行退火和表面特性检测。

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