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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种主动吸附式水导激光射流飞溅抑制装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119973350B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510339106.2，技术领域涉及：B23K26/146；该发明授权一种主动吸附式水导激光射流飞溅抑制装置是由王宣平;刘培源;高航设计研发完成，并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种主动吸附式水导激光射流飞溅抑制装置在说明书摘要公布了：本发明属于水导激光技术领域，涉及一种主动吸附式水导激光射流飞溅抑制装置。本发明在水导激光设备加工作业时，采用水导激光射流飞溅抑制装置，通过负压吸附盘配合真空发生器产生负压，可主动有效吸收高压射流接触工件后的溅射反冲，防止溅射水滴在喷嘴下端聚集以及二次弹射，同时持续吸收加工区域产生的水雾，从多个方面保护水束光纤的形态稳定，明显改善加工精度以及材料去除一致性。本发明采用径向整流环替代传统耦合装置的多对称立柱流道结构，可满足水导激光耦合装置腔体内部水流稳定和喷嘴上端水层分布均匀的要求，实现腔体内部水流速及压力的均匀化，降低了耦合装置生产制造的加工难度以及成本。

本发明授权一种主动吸附式水导激光射流飞溅抑制装置在权利要求书中公布了：1.一种主动吸附式水导激光射流飞溅抑制装置，其特征在于，包括耦合腔上壳体101，所述的耦合腔上壳体101下方安装有耦合腔基座301，耦合腔上壳体101与耦合腔基座301内部装配有径向整流模块2，耦合腔基座301下方安装有负压吸附盘401； 所述的耦合腔上壳体101开设有高压入水口102，所述的高压入水口102为对称双侧分布，耦合腔上壳体101中心开设有进光孔103，用于使激光通过；所述的耦合腔基座301中心开设第一出水口302，用于射流通过；耦合腔基座301上端面中心设有整流环保持槽303对径向整流环202进行位置定位；耦合腔基座301上端面设有外圈密封槽304和内圈密封槽305放置密封圈；耦合腔基座301通过上端面的定位台阶实现与耦合腔上壳体101的位置定位，通过螺纹与耦合腔上壳体101相连接，耦合腔基座301与耦合腔上壳体101夹紧形成密封的高压水腔； 所述的径向整流模块2包括窗口压块201，窗口压块201通过进光孔103下方的台阶进行位置定位；窗口压块201与耦合腔基座301之间安装有径向整流环202； 所述的负压吸附盘401与耦合腔基座301通过螺纹连接；负压吸附盘401中心开设有第二出水口402，下端面设置有结构状吸附孔群403；所述的负压吸附盘401下端面的结构状吸附孔群403以第二出水口402为中心呈放射状分布，相邻两条放射路径的夹角θ设置为18°~24°，各放射路径内相邻吸附孔的距离d设置为2.4mm‑4.8mm； 所述的吸附孔群403各个孔直径相等D2设置为1mm‑1.5mm，上方设置有吸附腔室404，用于收集溅射水滴及加工水雾输送至吸附管路405； 所述的吸附腔室高度h2设置为2mm‑4mm；所述的吸附管路405直径为2mm‑4mm，设置于负压吸附盘圆周上与真空发生器相连接。

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