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龙图腾网获悉广州市艾佛光通科技有限公司申请的专利一种溅射薄膜厚度控制系统、方法及溅射设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120082860B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510319597.4，技术领域涉及：C23C14/54；该发明授权一种溅射薄膜厚度控制系统、方法及溅射设备是由李国强;衣新燕;黄江华设计研发完成，并于2025-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种溅射薄膜厚度控制系统、方法及溅射设备在说明书摘要公布了：本申请涉及溅射薄膜沉积技术领域，具体提供了一种溅射薄膜厚度控制系统、方法及溅射设备，该系统包括：溅射机，其包括溅射室，溅射室内设有用于放置待溅射基材的托盘；膜厚测量组件，设置在溅射室内，用于采集待溅射基材的实际薄膜厚度信息；控制器，用于控制溅射机对待溅射基材进行溅射工艺，直至实际薄膜厚度信息达到目标薄膜厚度；该系统能够有效地解决由于不同批次的溅射薄膜沉积工艺的关于时间和薄膜沉积速率的关系存在差异而导致不同批次的溅射薄膜沉积工艺形成的薄膜厚度不一致的问题。

本发明授权一种溅射薄膜厚度控制系统、方法及溅射设备在权利要求书中公布了：1.一种溅射薄膜厚度控制系统，其特征在于，所述溅射薄膜厚度控制系统包括： 溅射机，其包括溅射室，所述溅射室内设有用于放置待溅射基材的托盘； 膜厚测量组件，设置在所述溅射室内，用于采集所述待溅射基材的实际薄膜厚度信息； 控制器，用于控制所述溅射机对所述待溅射基材进行溅射工艺，直至所述实际薄膜厚度信息达到目标薄膜厚度； 所述控制器还用于在对所述待溅射基材进行溅射工艺的过程中，周期性地根据溅射时长信息和预设转换关系获取预期薄膜厚度，并在所述实际薄膜厚度信息与所述预期薄膜厚度不等时调节所述溅射机的溅射工艺参数； 所述控制器在所述实际薄膜厚度信息与所述预期薄膜厚度不等时调节所述溅射机的溅射工艺参数的过程包括： 在所述实际薄膜厚度信息与所述预期薄膜厚度不等时，根据所述实际薄膜厚度信息与所述预期薄膜厚度的差值获取工艺参数调节量； 根据所述工艺参数调节量调节所述溅射机的溅射工艺参数； 所述工艺参数调节量包括基材温度调节量，所述溅射机还包括托盘调温组件，在所述实际薄膜厚度信息大于所述预期薄膜厚度且实际基材温度位于预设温度范围内时所述基材温度调节量为负值，在所述实际薄膜厚度信息小于所述预期薄膜厚度且实际基材温度位于所述预设温度范围内时基材温度调节量为正值； 所述膜厚测量组件包括多个厚度测量组件，多个所述厚度测量组件用于测量所述待溅射基材上不同区域的实际薄膜厚度信息，所述托盘调温组件包括多个温度调节单元，每个所述实际薄膜厚度信息对应的区域内均设有至少一个所述温度调节单元，所述控制器还用于根据所有所述实际薄膜厚度信息的平均值和所述实际薄膜厚度信息分析所述待溅射基材上是否存在厚度异常区域，所述厚度异常区域为其对应的实际薄膜厚度信息与所有所述实际薄膜厚度信息的平均值的差值大于预设差值的区域。

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