山东大学马厚义获国家专利权
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龙图腾网获悉山东大学申请的专利表面具有自组装纳米膜层的铜材及其制备方法、负极集流体、负极极片和电池单体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120184264B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510661194.8，技术领域涉及：H01M4/66；该发明授权表面具有自组装纳米膜层的铜材及其制备方法、负极集流体、负极极片和电池单体是由马厚义;陈春超;高翔;邱娟设计研发完成，并于2025-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本表面具有自组装纳米膜层的铜材及其制备方法、负极集流体、负极极片和电池单体在说明书摘要公布了：本申请公开了一种表面具有自组装纳米膜层的铜材及其制备方法、负极集流体、负极极片和电池单体。所述铜材包括铜材基体和设于所述铜材基体至少部分表面的膜层；所述膜层包括配位结构CuBF4‑42+以及与所述配位结构CuBF4‑42+通过分子间作用力相连的噻吩，所述噻吩包括噻吩化合物和噻吩聚合物中的一种或多种；所述膜层的厚度为20~100nm。根据本申请实施例，能够提高铜材的导电性，同时提高铜材的耐腐蚀性能和高温抗氧化性能。
本发明授权表面具有自组装纳米膜层的铜材及其制备方法、负极集流体、负极极片和电池单体在权利要求书中公布了：1.一种表面具有自组装纳米膜层的铜材，其特征在于，所述铜材包括铜材基体和设于所述铜材基体至少部分表面的膜层； 所述膜层包括配位结构CuBF4‑42+以及与所述配位结构CuBF4‑42+通过分子间作用力相连的噻吩，所述噻吩包括噻吩化合物和噻吩聚合物中的一种或多种，所述配位结构CuBF4‑42+中的铜离子通过成膜液中的酸对所述铜材基体刻蚀得到； 所述膜层的厚度为20~70nm。
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