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龙图腾网获悉杭州众能光电科技有限公司申请的专利一种原子沉积喷淋腔体及原子沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120350358B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510865886.4，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种原子沉积喷淋腔体及原子沉积设备是由马显;尧辉龙;郭静;莫佳彬;钟欣;陈雅琪;安文珍;石磊;邓士锋设计研发完成，并于2025-06-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种原子沉积喷淋腔体及原子沉积设备在说明书摘要公布了：本发明涉及原子层沉积技术的技术领域，尤其涉及一种原子沉积喷淋腔体及原子沉积设备，包括上腔盖、喷淋头、均气组件、基片和下腔体；上腔盖与下腔体能够围设形成喷淋腔体，基片设置于下腔体上用于承载衬底，喷淋头设置于上腔盖；均气组件设置于喷淋头与基片之间，均气组件具有散气板、缓冲层和均匀板；散气板均匀贯穿设置有若干散气孔，且均匀间隔设置有多个扰流凸起结构；通过散气板、缓冲层和均匀板由上至下叠层设置形成三级流场调控体系，从而显著提升气流均匀性与稳定性，解决了现有技术中喷淋腔体中单层均气板的均气效果有限，常出现喷淋不均匀、不能形成致密薄膜的技术问题，保证了了薄膜制备的厚度均匀，提高制膜质量。

本发明授权一种原子沉积喷淋腔体及原子沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种原子沉积喷淋腔体，其特征在于，包括上腔盖100、喷淋头200、均气组件300、基片400和下腔体500； 所述上腔盖100与所述下腔体500能够可拆卸连接，以围设形成密闭的喷淋腔体，所述基片400设置于所述下腔体500上，所述基片400用于承载衬底，所述喷淋头200设置于所述上腔盖100，并朝向所述下腔体500设置； 所述均气组件300设置于所述喷淋头200与所述基片400之间，所述均气组件300具有散气板310、缓冲层320和均匀板330，所述散气板310、所述缓冲层320和所述均匀板330由上至下叠层设置，所述散气板310、所述缓冲层320与所述均匀板330配合形成三级流场调控体系； 所述散气板310均匀设置有若干散气孔311，所述散气孔311贯穿所述散气板310，所述散气板310上均匀间隔设置有多个扰流凸起结构312； 多个所述扰流凸起结构312呈矩阵排列于所述散气板310上，所述扰流凸起结构312的高度为所述喷淋头200与所述散气板310之间间距的0.2至0.5倍； 所述喷淋头200具有总管路210和若干支喷头220，若干所述支喷头220分别与所述总管路210的一端连接，所述总管路210的另一端用于与外部工艺气体源连接，若干所述支喷头220均匀布置于所述上腔盖100，且所述支喷头220朝向所述散气板310设置； 相邻的所述扰流凸起结构312之间的间距与所述支喷头220的分布密度呈比例设置。

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