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台湾积体电路制造股份有限公司石志聪获国家专利权

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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利二维光栅耦合器和其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114815054B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110599643.2,技术领域涉及:G02B6/124;该发明授权二维光栅耦合器和其制造方法是由石志聪;周淳朴;斯帝芬鲁苏;徐英杰;卓联洲设计研发完成,并于2021-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。

二维光栅耦合器和其制造方法在说明书摘要公布了:公开一种用于光学耦合的装置和方法。在一个实例中,所描述的装置包含:平面层;光栅区,包括布置在平面层中以形成二维光栅的散射元件阵列;第一锥形结构,形成在平面层中,以将光栅区的第一侧连接到第一波导,其中第一锥形结构的形状是对于垂直于平面层中的光栅区的第一侧的任何线不对称的第一三角形;以及第二锥形结构,形成在平面层中,以将光栅区的第二侧连接到第二波导,其中第二锥形结构的形状是对于垂直于平面层中的光栅区的第二侧的任何线不对称的第二三角形,其中第一侧和第二侧大体上彼此垂直。

本发明授权二维光栅耦合器和其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种用于光学耦合的装置,包括: 平面层; 光栅区,包括布置在所述平面层中以形成二维光栅的散射元件阵列; 第一锥形结构,形成在所述平面层中,以将所述光栅区的第一侧连接到第一波导,其中所述第一锥形结构的形状是对于垂直于所述平面层中的所述光栅区的所述第一侧的任何线不对称的第一三角形;以及第二锥形结构,形成在所述平面层中,以将所述光栅区的第二侧连接到第二波导,其中所述第二锥形结构的形状是对于垂直于所述平面层中的所述光栅区的所述第二侧的任何线不对称的第二三角形,其中所述第一侧和所述第二侧彼此垂直,其中: 所述散射元件阵列均匀分布在所述平面层中,使得沿垂直于所述光栅区的所述第一侧的第一方向或垂直于所述光栅区的所述第二侧的第二方向在每两个相邻散射元件的中心之间具有相同距离,所述第一三角形具有位于所述光栅区的所述第一侧上的第一基底侧,具有与所述第一基底侧相对的第一顶点,且具有沿所述第一方向的第一长度; 所述第一顶点与所述平面层中的所述第一基底侧的垂直平分线具有第一距离; 所述第二三角形具有位于所述光栅区的所述第二侧上的第二基底侧,具有与所述第二基底侧相对的第二顶点,且具有沿所述第二方向的第二长度; 所述第二顶点与所述平面层中的所述第二基底侧的垂直平分线具有第二距离;且所述第一距离和所述第二距离彼此相等。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人台湾积体电路制造股份有限公司,其通讯地址为:中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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