信越化学工业株式会社簗瀬优获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利防护薄膜框架、防护薄膜组件以及防护薄膜组件的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114930247B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180008407.7，技术领域涉及：G03F1/64；该发明授权防护薄膜框架、防护薄膜组件以及防护薄膜组件的应用是由簗瀬优设计研发完成，并于2021-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本防护薄膜框架、防护薄膜组件以及防护薄膜组件的应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜组件及其应用、防护薄膜组件的检查方法、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体或液晶显示板的制造方法，防护薄膜框架为具有设置防护膜的上端面13以及面向光掩模的下端面14的框状的防护薄膜框架1，且防护薄膜框架1的至少内侧面11处的光源波长500nm～1000nm的最小反射率为20％以下。使用防护薄膜框架的防护薄膜组件及防护薄膜组件的检查方法中，防护薄膜框架通过降低防护薄膜框架内表面11对于检查光的反射率，而可尽可能地抑制来自框架的散射光，提高异物检查性，并且通过降低仅对于检查光的波长的反射率，而防护薄膜框架的着色等的限制少。
本发明授权防护薄膜框架、防护薄膜组件以及防护薄膜组件的应用在权利要求书中公布了：1.一种防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，其特征在于：所述防护薄膜框架的至少内侧面处的光源波长500nm～1000nm的最小反射率为3.7％以上且20％以下。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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