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龙图腾网获悉视涯科技股份有限公司申请的专利一种掩膜版及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117385321B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311324287.9，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权一种掩膜版及其制作方法是由曾章和;高志扬;章丰帆;罗丽媛;沈永财设计研发完成，并于2023-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩膜版及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种掩膜版及其制作方法。其中，制作方法包括在基底上制备第一无机材料层并进行刻蚀，形成包括多个第一图形的第一图形层，在第一图形层上制备金属层并进行刻蚀，形成包括多个金属图形的金属图形层，且各金属图形位于相邻两个第一图形之间。在金属图形层上制备第二无机材料层，并至少在基底的侧面形成第三无机材料层，然后保留第二区域的基底，去除第一区域的基底，最后去除第二无机材料层和第一图形层。其中，通过半导体制程工艺将金属图形层制备于基底上，可减小金属图形层上的通孔尺寸，满足了用户对显示面板的高分辨率需求。

本发明授权一种掩膜版及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括如下步骤： 提供基底，所述基底包括相对设置的第一面和第二面，以及设置于所述第一面和所述第二面之间的侧面； 在所述基底的所述第一面上形成第一无机材料层； 刻蚀所述第一无机材料层，形成包括多个第一图形的第一图形层，所述第一图形包括远离所述基底的第一顶面，以及连接所述第一顶面的第一侧面，所述第一顶面和所述第一侧面之间具有第一夹角； 在所述第一图形层上形成金属层，刻蚀所述金属层，形成包括多个金属图形的金属图形层，各所述金属图形位于相邻两个所述第一图形之间；所述金属图形包括远离所述基底的第二顶面，以及连接所述第二顶面的第二侧面，所述第二顶面和所述第二侧面之间具有第二夹角，所述第二夹角和所述第一夹角互补； 在所述金属图形层和所述第一图形层上形成第二无机材料层； 至少在所述基底的所述侧面上形成第三无机材料层； 从所述基底的所述第二面一侧刻蚀所述基底，保留第二区域的所述基底，去除第一区域的所述基底；其中，所述第二区域为围绕所述第一区域的周边区域； 去除所述第一图形层和所述第二无机材料层； 所述第一无机材料层和所述第二无机材料层的材料包括氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的至少一种； 所述第三无机材料层包括氮化硅、氧化铝、氧化钛和氧化硅中的至少一种。

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