上海天马微电子有限公司佟昊获国家专利权
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龙图腾网获悉上海天马微电子有限公司申请的专利一种微流控基板、显示装置及微流控装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118807858B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411140653.X，技术领域涉及：B01L3/00；该发明授权一种微流控基板、显示装置及微流控装置是由佟昊;章凯迪;王丽影;张东莉;付雪丽;林柏全设计研发完成，并于2024-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种微流控基板、显示装置及微流控装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种微流控基板、显示装置及微流控装置，微流控基板包括相对设置的第一膜层和第二膜层，流体与第一膜层及第二膜层均接触且流体在第一膜层与第二膜层之间的相对区域中移动。流体包括第一流体和第二流体，第一流体的折射率为n1，第二流体的折射率为n2，第一膜层的折射率为n3，n1≠n2且n1＜n3。第一膜层靠近第二膜层的一侧包括多个第一表面，第一表面的法线与微流控基板所在平面之间的法线之间的夹角为θ1，θ1≥arcsinn1n3；其中，n3≤n2，或者，n2＜n3且θ1＜arcsinn2n3。在本申请中，通过设置θ1的大小介于第一流体对应的临界角大小和第二流体对应的临界角大小之间，结合外界光的传播情况，可以确定第一流体和第二流体分别所处的位置。
本发明授权一种微流控基板、显示装置及微流控装置在权利要求书中公布了：1.一种微流控基板，其特征在于，所述微流控基板包括相对设置的第一膜层和第二膜层，流体与所述第一膜层及所述第二膜层均接触且所述流体在所述第一膜层与所述第二膜层之间的相对区域中移动； 所述流体包括第一流体和第二流体，所述第一流体的折射率为n1，所述第二流体的折射率为n2，所述第一膜层的折射率为n3，n1≠n2且n1＜n3； 所述第一膜层靠近所述第二膜层的一侧包括多个第一表面，所述第一表面的法线与所述微流控基板所在平面的法线之间的夹角为θ1，θ1≥arcsinn13； 其中，n3≤n2，或者，n2＜n3且θ1＜arcsinn23。
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