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龙图腾网获悉上海交通大学申请的专利一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119235260B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411379451.0，技术领域涉及：A61B5/00；该发明授权一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法是由谷成富;张浩然;杨建龙设计研发完成，并于2024-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法，涉及光学内窥探头设计技术领域，包括以下步骤：S100、结构初始化；S200、出射光场分布和品质因数函数FOM计算；S300、单个圆环迭代计算；S400、高度变化扰动停滞判断；S500、高度变化扰动停滞优化；S600、结构保留；S700、探头制作。本发明实现了消色差和焦深扩展，降低了拼接式内窥探头的组装难度。

本发明授权一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法在权利要求书中公布了：1.一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，包括： S100、结构初始化，将直径为124μm的衍射光学元件划分为个圆环，设定每个圆环的环宽和高度，T为正整数； S200、出射光场分布和品质因数函数FOM计算，计算结构初始化的所述衍射光学元件对应的出射光场分布和品质因数函数FOM； S300、单个圆环迭代计算，遍历选择每个圆环并更新高度变化Δh，所述衍射光学元件的结构更新，计算每个圆环对应的所述出射光场分布和所述品质因数函数FOM，保留使所述品质因数函数FOM增加的所述衍射光学元件结构； S400、高度变化扰动停滞判断，比较第一个圆环的品质因数函数FOM与最后一个圆环的品质因数函数FOM，如果最后一个圆环的品质因数函数FOM大于第一个圆环的FOM，那么重新执行步骤S300；否则每个圆环的高度变化Δh扰动陷入停滞，执行步骤S500； S500、高度变化扰动停滞优化，所述高度变化Δh在指定范围内随机更新，重新执行步骤S300‑步骤S400，所述高度变化Δh扰动停滞优化超过指定次数，则执行步骤S600； S600、结构保留，保留当前的衍射光学元件结构； S700、探头制作，利用双光子3D打印技术，将所述衍射光学元件打印到光纤端面，完成内窥光学相干层析成像探头的制作。

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