鸾和(深圳)科技有限公司;鸾和(深圳)智能设备有限公司肖晶获国家专利权
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龙图腾网获悉鸾和(深圳)科技有限公司;鸾和(深圳)智能设备有限公司申请的专利一种非接触式双探头方阻测量装置及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119395382B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411599761.3,技术领域涉及:G01R27/02;该发明授权一种非接触式双探头方阻测量装置及方法是由肖晶;李航设计研发完成,并于2024-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种非接触式双探头方阻测量装置及方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种非接触式双探头方阻测量装置及方法,属于方阻测量技术领域。本方案在上下探头中均设置控制器、励磁电路、辅助电路、屏蔽电路、交流电源。检测试样上表面膜层的方阻值时,上探头的励磁电路与下探头的辅助电路同时工作,检测试样下表面膜层的方阻值时,上探头的辅助电路与下探头的励磁电路同时工作。根据设置的切换频率控制上下探头内部电路的通断,依次测量试样上下表面膜层的方阻值。采用本发明的方案,不需要额外移动或翻转试样和探头即可同时测量试样上下表面相同位置的方阻,且无需重新购置一套方阻仪,也不需要额外的安装空间或旋转和平移机构,既节省了成本,还保证了检测精度、提高了检测效率。
本发明授权一种非接触式双探头方阻测量装置及方法在权利要求书中公布了:1.一种非接触式双探头方阻测量装置,用于同时测量产线上移动试样上下表面相同位置的方阻,所述试样包括第一膜层、基材、第二膜层,所述第一膜层与所述第二膜层分别位于所述基材的上下表面,其特征在于,所述非接触式双探头方阻测量装置包括: 第一探头、第二探头、主控单元、显示与输入输出单元; 所述第一探头、所述第二探头、所述显示与输入输出单元均分别与所述主控单元连接; 所述第一探头垂直设置于所述试样的上方,所述第二探头垂直设置于所述试样的下方,所述第一探头与所述第二探头的中心在一条直线上,且所述第一探头与所述第二探头均不与所述试样接触; 所述第一探头内设置有第一控制器、第一励磁电路、第一辅助电路、第一屏蔽电路、第一交流电源;所述第二探头内设置有第二控制器、第二励磁电路、第二辅助电路、第二屏蔽电路、第二交流电源; 所述第一辅助电路与所述第二辅助电路均为互感电路; 所述第一屏蔽电路与所述第二屏蔽电路用于电磁场隔离; 所述显示与输入输出单元用于设置测量参数、显示测量结果; 所述主控单元接收所述显示与输入输出单元设置的测量参数,通过所述第一控制器与所述第二控制器控制所述第一探头与所述第二探头内电路的通断,依次测量所述第一膜层与所述第二膜层的方阻值,并根据所述第一探头与所述第二探头的测量结果计算所述第一膜层与所述第二膜层的方阻值。
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